一种高透超薄柔性屏蔽玻璃及其制备方法与流程

文档序号:27547968发布日期:2021-11-24 21:31阅读:176来源:国知局
一种高透超薄柔性屏蔽玻璃及其制备方法与流程

1.本发明属于玻璃制备技术领域,尤其涉及一种高透超薄柔性屏蔽玻璃及其制备方法。


背景技术:

2.目前:电磁波是电磁能量传播的主要方式,高频电路工作时,会向外辐射电磁波,对邻近的其它设备产生干扰。另一方面,空间的各种电磁波也会感应到电路中,对电路造成干扰。电磁屏蔽是由金属屏蔽体将电磁波局限于某一区域的一种方法,电磁屏蔽在电子,通信等领域的应用需求广泛。高强电磁屏蔽玻璃的制造通常需要根据需求的电磁波频段的屏蔽效能来进行设计,但是现有技术的电磁屏蔽玻璃防护较强的频段为0.3

18ghz,屏蔽效能为≥40db,对磁场的防护性能较差。
3.通过上述分析,现有技术存在的问题及缺陷为:现有技术的电磁屏蔽玻璃防护较强的频段少,屏蔽效能小,对磁场的防护性能较差。


技术实现要素:

4.针对现有技术存在的问题,本发明提供了一种高透超薄柔性屏蔽玻璃及其制备方法。
5.本发明是这样实现的,一种高透超薄柔性屏蔽玻璃及其制备方法,所述高透超薄柔性屏蔽玻璃按照质量份数由废弃玻璃8~12份、二氧化硅4~9份、二氧化锆2~3份、石英砂3~4份、氧化铝4~7份、氧化锰2~5份、氧化钙2~3份、氧化钠2~3份、碳酸钠1~2份、聚合物薄膜1~3份、金属丝网2~4份组成。
6.进一步,所述高透超薄柔性屏蔽玻璃由复合玻璃层、纳米级电磁屏蔽层、金属丝网层组成。
7.本发明的另一目的在于提供一种高透超薄柔性屏蔽玻璃的制备方法,所述高透超薄柔性屏蔽玻璃的制备方法包括以下步骤:
8.步骤一,使用废弃玻璃、二氧化硅、石英砂、氧化铝、氧化锰、氧化钙、氧化钠、碳酸钠进行复合玻璃原料的制备:按照质量份数称取废弃玻璃、二氧化硅、石英砂、氧化铝、氧化锰、氧化钙、氧化钠、碳酸钠;将废弃玻璃进行粉碎后与二氧化硅、石英砂、氧化铝、氧化锰、氧化钙、氧化钠、碳酸钠混合,加热至熔融状态,得到玻璃液;将玻璃液进行水淬并将水淬后的玻璃取出置于研磨机中研磨,得到粉末即复合玻璃原料;
9.步骤二,使用制备的复合玻璃原料进行复合玻璃的制备:将二氧化锆进行球磨后与硅烷偶联剂混合,加入乙醇溶液中,搅拌均匀并进行超声分散,得到分散液;在分散液中滴加醋酸进行ph调节;对调节ph后的分散液进行加热,待加热物质中固态物质无明显增加时停止加热,过滤滤出固态物质,对固态物质进行干燥,得到改性硅烷偶联剂;将改性硅烷偶联剂与复合玻璃原料进行混合,搅拌均匀后进行加热得到熔融液体并将熔融液体倒入模具中,热压成型,冷却至室温,得到复合玻璃;
10.步骤三,使用聚合物薄膜进行纳米级电磁屏蔽层的制备:选择双面导通的聚合物薄膜,对聚合物薄膜进行粗化处理得到粗化后的薄膜;在粗化后的薄膜上进行气相沉积形成电磁屏蔽层;将电磁屏蔽层覆盖在复合玻璃的上下两面,得到含纳米级电磁屏蔽层的复合玻璃;
11.步骤四,在含纳米级电磁屏蔽层的复合玻璃表面进行金属丝网层的添加得到高透超薄柔性屏蔽玻璃:将金属丝网进行烘干并对表面杂质进行清理,得到干燥的金属丝网;将干燥的金属丝网放入层压机中并在干燥的金属丝网的上下两面分别进行含纳米级电磁屏蔽层的复合玻璃的放置;对放置的含纳米级电磁屏蔽层的复合玻璃与干燥的金属丝网进行对齐,开启层压机进行高温层压,使金属液熔融形成垂直向下的射流冲击到含纳米级电磁屏蔽层的复合玻璃表面,得到预处理高透超薄柔性屏蔽玻璃。
12.进一步,步骤一中,所述研磨后过80目筛,取筛下物。
13.进一步,步骤二中,所述乙醇溶液的体积浓度为75%。
14.进一步,步骤二中,所述超声分散的频率为50~60khz,超声分散的时间为10~30min。
15.进一步,步骤二中,所述进行ph调节包括:待ph为3.5~4时停止滴加,完成ph调节。
16.进一步,步骤二中,所述加热的温度为700~950℃。
17.进一步,步骤三中,所述聚合物薄膜为聚酰亚胺层,厚度为0.009mm。
18.所述金属丝网层表面涂布光刻胶层。
19.所述步骤四得到预处理高透超薄柔性屏蔽玻璃后,根据波导管效应设计出曝光图型进行曝光清洗,再把做好的线路放在氨基磺酸镍溶液中进行微电铸生长处理,根据不同的屏蔽效能生产不不同厚度的屏蔽材料,即具有耐

70

260度环境且不变形的屏蔽玻璃。
20.结合上述的所有技术方案,本发明所具备的优点及积极效果为:本发明制备的提供的高透超薄柔性屏蔽玻璃中复合玻璃的透光率高,具有较好的光学性能,在复合玻璃表面进行纳米级电磁屏蔽层的添加,对中低频电磁波防护能力强,对电磁场的屏蔽防护能力强,屏蔽频段广泛;多层复合结构中的玻璃采用铝硅酸盐玻璃,耐环境性能好;纳米级电磁屏蔽层以及金属丝网层的添加能够实现夹层复合,无裸露使用的风险。本发明的制备方法简单,能够降低制备成本,并且制备的玻璃的电磁屏蔽效果好。
21.本发明采用现有最薄基材玻璃0.06mm,在其上下表面涂布等厚0.009mm的聚酰亚胺层,使其高低温情况下不变形,有有柔韧弯曲效果,最后在其一面做真空磁溅镀使其透明导电,为了增加屏蔽效能,再在金属丝网层表面涂布光刻胶层,根据波导管效应设计出曝光图型进行曝光清洗,再把做好的线路放在氨基磺酸镍溶液中进行微电铸生长处理,根据不同的屏蔽效能生产不不同厚度的屏蔽材料。使其产品具有耐

70

260度环境且不变形的屏蔽玻璃,产品具有防爆,高硬度,不变形,轻质,高透等特点。
附图说明
22.为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案,下面将对本技术实施例中所需要使用的附图做简单的介绍,显而易见地,下面所描述的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下还可以根据这些附图获得其他的附图。
23.图1是本发明实施例提供的高透超薄柔性屏蔽玻璃的制备方法流程图。
24.图2是本发明实施例提供的使用废弃玻璃、二氧化硅、石英砂、氧化铝、氧化锰、氧化钙、氧化钠、碳酸钠进行复合玻璃原料的制备流程图。
25.图3是本发明实施例提供的使用制备的复合玻璃原料进行复合玻璃的制备流程图。
26.图4是本发明实施例提供的使用聚合物薄膜进行纳米级电磁屏蔽层的制备流程图。
27.图5是本发明实施例提供的在含纳米级电磁屏蔽层的复合玻璃表面进行金属丝网层的添加得到高透超薄柔性屏蔽玻璃流程图。
具体实施方式
28.为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
29.针对现有技术存在的问题,本发明提供了一种高透超薄柔性屏蔽玻璃及其制备方法,下面结合附图对本发明作详细的描述。
30.本发明实施例提供的高透超薄柔性屏蔽玻璃按照质量份数由废弃玻璃8~12份、二氧化硅4~9份、二氧化锆2~3份、石英砂3~4份、氧化铝4~7份、氧化锰2~5份、氧化钙2~3份、氧化钠2~3份、碳酸钠1~2份、聚合物薄膜1~3份、金属丝网2~4份组成。
31.本发明实施例提供的高透超薄柔性屏蔽玻璃由复合玻璃层、纳米级电磁屏蔽层、金属丝网层组成。
32.如图1所示,本发明实施例提供的高透超薄柔性屏蔽玻璃的制备方法包括以下步骤:
33.s101,使用废弃玻璃、二氧化硅、石英砂、氧化铝、氧化锰、氧化钙、氧化钠、碳酸钠进行复合玻璃原料的制备;
34.s102,使用制备的复合玻璃原料进行复合玻璃的制备;
35.s103,使用聚合物薄膜进行纳米级电磁屏蔽层的制备;
36.s104,在含纳米级电磁屏蔽层的复合玻璃表面进行金属丝网层的添加得到高透超薄柔性屏蔽玻璃(即预处理高透超薄柔性屏蔽玻璃)。
37.本发明中,所述聚合物薄膜为聚酰亚胺层,厚度为0.009mm。
38.所述金属丝网层表面涂布光刻胶层。
39.得到预处理高透超薄柔性屏蔽玻璃后,根据波导管效应设计出曝光图型进行曝光清洗,再把做好的线路放在氨基磺酸镍溶液中进行微电铸生长处理,根据不同的屏蔽效能生产不不同厚度的屏蔽材料,即具有耐

70

260度环境且不变形的屏蔽玻璃。
40.如图2所示,本发明实施例提供的使用废弃玻璃、二氧化硅、石英砂、氧化铝、氧化锰、氧化钙、氧化钠、碳酸钠进行复合玻璃原料的制备,包括:
41.s201,按照质量份数称取废弃玻璃、二氧化硅、石英砂、氧化铝、氧化锰、氧化钙、氧化钠、碳酸钠;
42.s202,将废弃玻璃进行粉碎后与二氧化硅、石英砂、氧化铝、氧化锰、氧化钙、氧化
钠、碳酸钠混合,加热至熔融状态,得到玻璃液;
43.s203,将玻璃液进行水淬并将水淬后的玻璃取出置于研磨机中研磨,得到粉末即复合玻璃原料。
44.步骤s203中,本发明实施例提供的研磨后过80目筛,取筛下物。
45.如图3所示,本发明实施例提供的使用制备的复合玻璃原料进行复合玻璃的制备,包括:
46.s301,将二氧化锆进行球磨后与硅烷偶联剂混合,加入乙醇溶液中,搅拌均匀并进行超声分散,得到分散液;
47.s302,在分散液中滴加醋酸进行ph调节;
48.s303,对调节ph后的分散液进行加热,待加热物质中固态物质无明显增加时停止加热,过滤滤出固态物质,对固态物质进行干燥,得到改性硅烷偶联剂;
49.s304,将改性硅烷偶联剂与复合玻璃原料进行混合,搅拌均匀后进行加热得到熔融液体并将熔融液体倒入模具中,热压成型,冷却至室温,得到复合玻璃。
50.步骤s301中,本发明实施例提供的乙醇溶液的体积浓度为75%。
51.步骤s301中,本发明实施例提供的超声分散的频率为50~60khz,超声分散的时间为10~30min。
52.步骤s302中,本发明实施例提供的进行ph调节包括:待ph为3.5~4时停止滴加,完成ph调节。
53.步骤s304中,本发明实施例提供的加热的温度为700~950℃。
54.如图4所示,本发明实施例提供的使用聚合物薄膜进行纳米级电磁屏蔽层的制备,包括:
55.s401,选择双面导通的聚合物薄膜,对聚合物薄膜进行粗化处理得到粗化后的薄膜;
56.s402,在粗化后的薄膜上进行气相沉积形成电磁屏蔽层;
57.s403,将电磁屏蔽层覆盖在复合玻璃的上下两面,得到含纳米级电磁屏蔽层的复合玻璃。
58.步骤s401中,本发明实施例提供的聚合物薄膜为聚酰亚胺层。
59.步骤s401中,本发明实施例提供的聚合物薄膜的厚度为0.6~1.5μm。
60.如图5所示,本发明实施例提供的在含纳米级电磁屏蔽层的复合玻璃表面进行金属丝网层的添加得到高透超薄柔性屏蔽玻璃,包括:
61.s501,将金属丝网进行烘干并对表面杂质进行清理,得到干燥的金属丝网;
62.s502,将干燥的金属丝网放入层压机中并在干燥的金属丝网的上下两面分别进行含纳米级电磁屏蔽层的复合玻璃的放置;
63.s503,对放置的含纳米级电磁屏蔽层的复合玻璃与干燥的金属丝网进行对齐,开启层压机进行高温层压,使金属液熔融形成垂直向下的射流冲击到含纳米级电磁屏蔽层的复合玻璃表面,得到高透超薄柔性屏蔽玻璃。
64.下面结合实验数据对本发明作进一步描述。
65.实验表明:
66.本发明采用现有最薄基材玻璃0.06mm,在其上下表面涂布等厚0.009mm的聚酰亚
胺层,使其高低温情况下不变形,有有柔韧弯曲效果,最后在其一面做真空磁溅镀使其透明导电,为了增加屏蔽效能,再在金属丝网层表面涂布光刻胶层,根据波导管效应设计出曝光图型进行曝光清洗,再把做好的线路放在氨基磺酸镍溶液中进行微电铸生长处理,根据不同的屏蔽效能生产不不同厚度的屏蔽材料。使其产品具有耐

70

260度环境且不变形的屏蔽玻璃,产品具有防爆,高硬度,不变形,轻质,高透等特点。
67.以上所述,仅为本发明较优的具体的实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,都应涵盖在本发明的保护范围之内。
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