技术特征：
1.一种软x射线滤光片，包括石墨烯支撑层，所述石墨烯支撑层表面涂覆有铝膜。2.如权利要求1所述的软x射线滤光片，其特征在于，所述石墨烯支撑层的厚度为0.35～0.7nm。3.如权利要求1所述的软x射线滤光片，其特征在于，所述铝膜的厚度为10～50nm。4.如权利要求1所述的软x射线滤光片，其特征在于，所述软x射线滤光片还包括框架结构，所述石墨烯支撑层被固定于框架结构上。5.如权利要求1所述的软x射线滤光片，其特征在于，所述软x射线滤光片对于能量为200～1000ev的光子的通过率≥80％；和/或，所述软x射线滤光片对于能量为400～1000ev的光子的通过率≥95％。6.如权利要求1～5任一权利要求所述的软x射线滤光片的制备方法，包括：在石墨烯支撑层表面形成铝膜。7.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述在石墨烯支撑层表面形成铝膜的方法选自物理气相沉积法。8.如权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述物理气相沉积法选自电子束蒸镀。9.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，还包括：将石墨烯支撑层固定于框架结构上。10.如权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述框架结构的材质为硅。
技术总结
本发明涉及X射线探测应用领域，特别是涉及一种软X射线滤光片及其制备方法和用途。本发明所提供的软X射线滤光片，包括石墨烯支撑层，所述石墨烯支撑层表面涂覆有铝膜。本申请所提供的软X射线滤光片采用了石墨烯作为铝膜的支撑结构，使得能量在277eV附近的光子，其透过率可达到90％以上，克服了现有滤光片对该能量范围透过率底的问题，而对于能量范围在400
技术研发人员：孟建伟 翁祖谦
受保护的技术使用者：上海科技大学
技术研发日：2021.08.24
技术公布日：2021/11/23