如，第一波长λ I可以为800纳米，而第二波长λ 2可以为850纳米，但实施方式不限于此。
[0040]根据一种实施方式的红外滤波器126可以包括第一染料和第二染料。
[0041]第一染料用于吸收具有小于第一波长λ I (或者小于或等于第一波长λ I)的波段的光，并且用于透射具有大于或等于第一波长λ I (或大于第一波长λ I)的波段的光。
[0042]第二染料用于吸收和阻挡具有大于或等于第二波长λ 2 (或大于第二波长λ 2)并且小于或等于第三波长λ 3(或小于第三波长λ 3)的波段的光，并且透射具有小于第二波长λ 2(或者小于或等于第二波长λ 2)并且大于第三波长λ 3(或者大于或等于第三波长λ 3)的波段的光。
[0043]图2是不出量子效率根据光的波长的曲线图。此处，纵轴表不量子效率，而横轴表不波长。
[0044]第三波长λ 3被确定为落入低至可以忽略的波段内的任何值，并且在该波段内，光的量子效率非常低。例如，参照图2，当第三波长λ 3大于或等于950纳米时，量子效率低至可以忽略。因此，第三波长λ 3可以等于950纳米。例如，第三波长λ 3可以大于或等于1100纳米，但实施方式不限于此。
[0045]图3A至图3D是用于说明图1中所示的红外滤波器126的操作的曲线图。图3A是用于借助于第一染料对光的吸收和透射进行说明的曲线图，图3B是用于借助于第二染料对光的吸收和透射进行说明的曲线图，图3C是用于借助于以混合形式的第一染料和第二染料对光的吸收和透射进行说明的曲线图，以及图3D是用于借助于红外滤波器126对光的吸收和透射进行说明的曲线图。在每个曲线图中，横轴表示波长，而纵轴表示透射率T。
[0046]参照图3A，第一染料可以吸收和阻挡具有小于第一波长λ?(例如800纳米)的波段的光，并且透射具有大于或等于800纳米的波段的光。参照图3Β，第二染料可以吸收和阻挡具有落入大于或等于第二波长λ 2(例如850纳米)且小于或等于第三波长λ3(例如1100纳米)的波段内的波长的光，并且透射具有落入小于850纳米或大于1100纳米的波段内的波长的光。当具有这样的特性的第一染料和第二染料如图3C所示被混合时，红外滤波器126可以透射具有落入从第一波长λ I至第二波长λ 2(即从800纳米至850纳米的波段)的波段内的波长的红外光，并且如图3D中所示，通过吸收具有其它波长的光来阻挡具有其它波长的光。
[0047]当红外滤波器126如上所述包括第一染料和第二染料时，红外滤波器126可以透射具有落入所期望的红外波段内的波长的光，并且吸收和阻挡具有落入其它波段内的波长的光。第一染料和第二染料可以以各种形式被包括在红外滤波器126中。在下文中，将如下那样参照附图来详细描述红外滤波器126的各种实施方式。
[0048]图4Α至图4F是示出图1中所示的红外滤波器126的实施方式(126Α至126F)的图。
[0049]如图4Α或图4Β所示，红外滤波器126Α或126Β可以包括衬底126-1Α以及第一染料层126-2Α或126-Β。此外，如图4C所示，红外滤波器126C可以仅包括衬底126-1Β。另外，如图4D至图4F所示，红外滤波器126D至126F中的每个红外滤波器可以包括衬底126-1Α、第一染料层126-2和第二染料层126-3。
[0050]将如下那样进一步详细描述红外滤波器126的实施方式(126Α至126F)。
[0051]参照图4Α和图4Β，红外滤波器126Α或126Β可以包括衬底126-1Α以及第一染料层126-2Α或126-2Β。第一染料层126-2Α或126-2Β可以沿图像被获取的方向(例如y轴方向)被布置在衬底126-1A上，并且可以包括第一染料和第二染料。
[0052]例如，如图4A所示，第一染料层126-2A可以包括以混合的形式的第一染料152和第二染料154。
[0053]或者，如图4B所示，第一染料层126-2B可以包括第1_1染料层126_2_1和第1_2染料层126-2-2。第1-1染料层126-2-1可以包括第一染料152，而第1_2染料层126-2-2可以包括第二染料154。在这种情况下，第1-1染料层126-2-1和第1_2染料层126-2-2可以沿图像被获取的方向(例如I轴方向)被布置在衬底126-1A上以彼此交叠。
[0054]图4B示出了第1-1染料层126-2-1被布置在衬底126-1A与第1-2染料层126-2-2之间的情况，但实施方式不限于此。也就是说，根据另一实施方式，第1-2染料层126-2-2可以被布置在衬底126-1A与第1-1染料层126-2-1之间。
[0055]此外，如图4C所示，可以仅使用包括第一染料152和第二染料154的衬底126-1B来实现红外滤波器126C。
[0056]另外，如图4D至图4F所示，红外滤波器126D至126F中的每个红外滤波器还可以包括以多层薄膜的形式的第二染料层126-3。
[0057]在图4D至图4F中，第一染料层126-2可以与图4A或图4B中所示的第一染料层126-2A或126-2B对应。或者，可以使用如图4C所示的省略第一染料层126-2A或126-2B而衬底126-1B包括第一染料152和第二染料154的配置来代替如图4D至图4F所示的具有衬底126-1A和第一染料层126-2的配置。
[0058]在图4D和图4E中，第一染料层126-2可以具有面向对象10的前表面121以及面向衬底126-1A的后表面123。在这种情况下，如图4D所示，第二染料层126-3可以被布置在第一染料层126-2的前表面121上。或者，如图4E中所示，第二染料层126-3可以被布置在第一染料层126-2的后表面123上，使得第二染料层126-3被布置在衬底126-1A与第一染料层126-2之间。
[0059]另外，在图4F中，衬底126-1A可以具有面向第一染料层126-2的前表面125以及面向图像传感器122的后表面127。在这种情况下，第二染料层126-3可以被布置在衬底126-1A的后表面127上。
[0060]第二染料层126-3可以具有以下形状，其中，具有不同的折射率的两种材料膜(或材料层)以交替的方式重复堆叠。例如，如图4D至图4F所示，第二染料层126-3可以包括第一层对126-3-P1和第二层对126-3-P2。此处，第一层对126-3-P1和第二层对126-3-P2中的每一个可以包括第一层126-3-1和第二层126-3-2。第一层126-3-1和第二层126-3-2可以由半导体材料或半导体材料的氧化物膜组成。例如，第一层126-3-1可以为硅膜，而第二层126-3-2可以为娃氧化膜。例如，作为娃膜的第一层126-3-1可以由多晶娃、无定形娃或单晶硅组成。第一层126-3-1优选地由多晶硅组成。
[0061]图4D至图4F示出了第二染料层126-3仅包括两对即第一层对126-3-P1和第二层对126-3-P2的情况，但实施方式不限于此。例如，第二染料层126-3可以包括一对或者两对或更多对。
[0062]如上所述的第一染料层126-2A、126-2B和126-2以及第二染料层126-3中的每一层可以以涂覆或施加的形式耦接至衬底126-1A，但实施方式不限于第一染料层126-2A、126-2B和126-2以及第二染料层126-3耦接至衬底126-1A。
[0063]图4A至图4F中所示的衬底126-1A和126-1B可以由选自由塑料和玻璃所组成的组中的至少一种材料组成，但实施方式不限于衬底126-1A和126-1B的特定材料。
[0064]同时，再次参照图1，图像处理单元130可以用于使用由图像获取单元120获取的光来获得与对象10的3D距离有关的信息。为此，图像处理单元130可以包括距离生成单元132。距离生成单元132可以用于使用由图像获取单元120获取的光来获得与对象10的3D距离有关的信息。
[0065]此外，图像处理单元130还可以包括映射生成单元134。此处，映射生成单元134可以用于使用由距离生成单元132获得的与3D距离有关的信息来生成对象10的3D映射。此处，术语“3D映射”可以指代表示对象10的表面的一系列3D坐标