Cvi沉积碳连续生长炉的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于生长炉技术领域，尤其涉及一种CVI沉积碳连续生长炉。
【背景技术】
[0002]CVI (化学气相渗透Chemical Vapor Infiltrat1n)沉积碳连续生长炉是用于在碳纤维或其它纤维上连续沉积碳的设备。目前，CVI沉积碳连续生长炉一般是在高于大气压下，在碳纤维或其它纤维上沉积碳，这就导致沉积的碳致密性差、均匀性不好，连续性也较差，而且需要较多的气体。
[0003]此外，现有技术中，需要先人工将碳纤维或其它纤维绕在工装上，再将整个工装放到生长炉内，这就导致碳纤维等容易断裂，而且费时，费力。
[0004]有鉴于此，确有必要提供一种CVI沉积碳连续生长炉，其在真空状态下进行碳沉积，形成的碳沉积层致密性好、均匀性好，而且连续性佳，效率高，需要的气体量少。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型的目的在于:针对现有技术的不足，而提供一种CVI沉积碳连续生长炉，其在真空状态下进行碳沉积，形成的碳沉积层致密性好、均匀性好，而且连续性佳，效率高，需要的气体量少。
[0006]为了达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案:
[0007]CVI沉积碳连续生长炉，包括加热炉体、真空系统、进料真空腔室、出料真空腔室、导向机构、牵引机构、燃烧器和反应腔室，所述反应腔室置于所述加热炉体内，所述导向机构置于所述进料真空腔室内，所述牵引机构设置于所述出料真空腔室内，所述进料真空腔室、所述反应腔室和所述出料真空腔室均与所述真空系统连接，所述进料真空腔室和所述出料真空腔室均与所述反应腔室连接，所述燃烧器与所述反应腔室连通。
[0008]作为本实用新型CVI沉积碳连续生长炉的一种改进，所述进料真空腔室和所述出料真空腔室均连接有真空计，所述反应腔室连接有进气管道，所述进气管道上设置有进气阀。
[0009]作为本实用新型CVI沉积碳连续生长炉的一种改进，所述真空系统包括真空管道、真空阀门和真空栗，所述进料真空腔室通过所述真空管道与所述真空栗连接，所述反应腔室通过所述真空管道与所述真空栗连接，所述出料真空腔室通过所述真空管道与所述真空栗连接，所述真空阀门设置于所述真空管道上。
[0010]作为本实用新型CVI沉积碳连续生长炉的一种改进，所述真空管道上还设置有压力调节阀、压力开关和压力传感器。
[0011]作为本实用新型CVI沉积碳连续生长炉的一种改进，所述进料真空腔室包括第一腔壁和第一上盖板，所述第一上盖板通过第一铰链与所述第一腔壁连接，所述出料真空腔室包括第二腔壁和第二上盖板，所述第二上盖板通过第二铰链与所述第二腔壁连接。
[0012]作为本实用新型CVI沉积碳连续生长炉的一种改进，所述进料真空腔室内还设置有第一固定轴，所述出料真空腔室内还设置有第二固定轴，所述牵引机构包括驱动装置和牵引轮，所述驱动装置的输出轴与所述第二固定轴连接，并且所述驱动装置的输出轴上还设置有磁流体，所述导向机构包括导向轮，所述导向轮设置于所述第一固定轴和所述牵引轮之间，所述牵引轮设置于所述导向轮和所述第二固定轴之间。
[0013]作为本实用新型CVI沉积碳连续生长炉的一种改进，所述加热炉体包括外壳层、保温层、内壳层和加热丝，所述保温层位于所述外壳层和所述内壳层之间，所述加热丝设置于所述内壳层内。
[0014]作为本实用新型CVI沉积碳连续生长炉的一种改进，所述进料真空腔室通过第一法兰盘与所述反应腔室连接，所述第一法兰盘和所述反应腔室之间设置有密封圈，所述第一法兰盘上设置有水冷通道，用于保护密封圈；所述出料真空腔室通过第二法兰盘与所述反应腔室连接，所述第二法兰盘和所述反应腔室之间设置有密封圈，所述第二法兰盘上设置有水冷通道，用于保护密封圈。
[0015]使用时，碳纤维通过所述导向机构从进料真空腔室进入反应腔室，经过反应腔室后连接到出料真空腔室的牵引机构上，关闭进料真空腔室、出料真空腔室盖板，通电加热炉体，将反应腔室加热到设定温度，然后打开真空阀门、真空栗，将进料真空腔室、反应腔室、出料真空腔室抽到设定真空值，然后打开进气阀向反应腔室内通入工艺气体，通过压力调节阀将反应腔室的压力控制在设定的压力值内，开启牵引机构，使碳纤维按照设计的速度连续通过反应腔室，碳纤维在经过反应腔室过程中，在其表面沉积所需的涂层。
[0016]相对于现有技术，本实用新型在真空状态下进行碳沉积，形成的碳沉积层致密性好、均匀性好，而且连续性佳，效率高，需要的气体量少。而且导向机构和牵引机构的设置可以大大提尚碳沉积的效率。
【附图说明】
[0017]图1为本实用新型的剖视结构示意图。
[0018]图2为本实用新型的俯视结构示意图。
[0019]图3为本实用新型的左视结构示意图。
[0020]其中:
[0021]1-加热炉体；
[0022]11-外壳层，12-保温层，13-内壳层；
[0023]2-真空系统；
[0024]21-真空管道，22-真空阀门，23-真空栗；
[0025]3-进料真空腔室；
[0026]31-第一腔壁，32-第一上盖板，33-第一固定轴；
[0027]4-出料真空腔室；
[0028]41-第二腔壁，42-第二上盖板，43-第二固定轴；
[0029]5-导向机构；
[0030]6-牵引机构；
[0031]61-驱动装置，62-牵引轮，63-磁流体；
[0032]7-燃烧器；
[0033]8-反应腔室；
[0034]9-真空计。
【具体实施方式】
[0035]以下将结合具体实施例对本实用新型及其有益效果作进一步详细的说明，但是，本实用新型的【具体实施方式】并不局限于此。
[0036]如图1至3所示，本实用新型提供的CVI沉积碳连续生长炉，包括加热炉体1、真空系统2、进料真空腔室3、出料真空腔室4、导向机构5、牵引机构6、燃烧器7和反应腔室8，反应腔室8置于加热炉体I内，导向机构5置于进料真空腔室3内，牵引机构6设置于出料真空腔室4内，进料真空腔室3、反应腔室8和出料真空腔室4均与真空系统2连接，进料真空腔室3和出料真空腔室4均与反应腔室8连接，燃烧器7与反应腔室8连通。其中，反应腔室8采用优质耐高温石英管或者钢玉管。
[0037]进料真空腔室3和出料真空腔室4均连接有真空计9，便于检测腔室内的真空度。反应腔室8连接有进气管道，进气管道上设置有进气阀，从进气管道可以输入工艺气体。
[0038]真空系统2包括真空管道21、真空阀门22和真空栗23，进料真空腔室3通过真空管道21与真空栗23连接，反应腔室8通过真空管道21与真空栗23连接，出料真空腔室4通过真空管道21与真空栗23连接，真空阀门22设置于真空管道21上，做工艺前开启真空栗23将腔室(进料真空腔室3和出料真空腔室)抽到所需的真空状态，然后再通入工艺气体(乙烯和氮气)，防止氧气进入工艺腔室内，影响产品性能。
[0039]真空管道21上还设置有独立的压力调节阀、压力开关和压力传感器，通过压力调节阀可以调节腔室内的压力。
[0040]进料真空腔室3包括第一腔壁31和第一上盖板32，第一上盖板32通过第一铰链与第一腔壁31连接，方便开启，便于上料，出料真空腔室4包括第二腔壁41和第二上盖板42，第二上盖板42通过第二铰链与第二腔壁41连接，方便开启，便于上料