适用于圆片光刻工艺的感应装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种半导体加工装置，尤其是一种适用于圆片光刻工艺的感应装置。
【背景技术】
[0002]光刻加工过程中，往往需要对待加工圆片的位置进行判断，方可进行加工。传统的圆片位置感应均采用光电感应装置，即采用两个成对称分布的光线发生器与接收器，通过光在圆片表面的反射对圆片的位置进行感应。然而，由于圆片，尤其是待加工的圆片表面粗糙，其使得反射角度存在不确定性，从而使得感应精度难以得到保证，进而导致加工过程中时常出现碎片现象。
【发明内容】
[0003]本发明要解决的技术问题是提供一种适用于圆片光刻工艺的感应装置，其可使得感应精度得以改善。
[0004]为解决上述技术问题，本发明涉及一种适用于圆片光刻工艺的感应装置，其包括有用于对圆片进行传输的上料装置;所述上料装置的前端部设置有感应支架，感应支架之上设置有接近开关，接近开关与上料装置彼此相对。
[0005]作为本发明的一种改进，所述感应支架与上料装置的相对端面之上设置有安置槽体，安置槽体的上端面设置有安置孔，所述接近开关通过安置孔连接至感应支架之上，接近开关的下端部延伸至安置槽体内部。采用上述设计，其可通过感应支架中安置槽体的设置，使之形成与接近开关相对应的安装位置，从而使得接近开关在组装过程中的布局更为合理;安置孔的设置则使得接近开关的安装稳定性得以改善。
[0006]作为本发明的一种改进，所述接近开关的下端部连接有传输线缆，所述安置槽体的下端部设置有延伸孔，其与安置孔同轴延伸;所述传输线缆经由延伸孔延伸至外部。采用上述设计，其可通过延伸孔对传输线缆进行安置，避免其发生损坏。
[0007]作为本发明的一种改进，所述接近开关与安置孔上端部与下端部的连接位置分别设置有橡胶减震圈，其可避免接近开关因机械振动等因素发生跌落甚至损坏，从而使得感应装置的使用寿命得以提升。
[0008]采用上述技术方案的圆片光刻工艺的感应装置，其可通过接近开关替代传统圆盘感应装置所采用的光电感应，从而使得感应装置不受圆片表面粗糙度的影响，使得感应精度得以改善，以使得加工过程中的碎片现象得以显著改善。
【附图说明】
[0009]图1为本发明示意图；
[0010]附图标记列表:
[0011 ] i 一上料装置、2 一感应支架、3 一接近开关、4 一安置槽体、5 一安置孔、6—传输线缆、7 一延伸孔、8 一橡I父减震圈D
【具体实施方式】
[0012]下面结合【具体实施方式】，进一步阐明本发明，应理解下述【具体实施方式】仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。
[0013]实施例1
[0014]如图1所示的一种适用于圆片光刻工艺的感应装置，其包括有用于对圆片进行传输的上料装置I;所述上料装置I的前端部设置有感应支架2，感应支架2之上设置有接近开关3，接近开关3与上料装置I彼此相对。
[0015]作为本发明的一种改进，所述感应支架2与上料装置I的相对端面之上设置有安置槽体4，安置槽体4的上端面设置有安置孔5，所述接近开关3通过安置孔4连接至感应支架2之上，接近开关3的下端部延伸至安置槽体4内部。采用上述设计，其可通过感应支架中安置槽体的设置，使之形成与接近开关相对应的安装位置，从而使得接近开关在组装过程中的布局更为合理;安置孔的设置则使得接近开关的安装稳定性得以改善。
[0016]作为本发明的一种改进，所述接近开关3的下端部连接有传输线缆6，所述安置槽体4的下端部设置有延伸孔7，其与安置孔5同轴延伸;所述传输线缆6经由延伸孔7延伸至外部。采用上述设计，其可通过延伸孔对传输线缆进行安置，避免其发生损坏。
[0017]采用上述技术方案的圆片光刻工艺的感应装置，其可通过接近开关替代传统圆盘感应装置所采用的光电感应，从而使得感应装置不受圆片表面粗糙度的影响，使得感应精度得以改善，以使得加工过程中的碎片现象得以显著改善。
[0018]实施例2
[0019]作为本发明的一种改进，所述接近开关3与安置孔5上端部与下端部的连接位置分别设置有橡胶减震圈8，其可避免接近开关因机械振动等因素发生跌落甚至损坏，从而使得感应装置的使用寿命得以提升。
[0020]本实施例其余特征与优点均与实施例1相同。
【主权项】
1.一种适用于圆片光刻工艺的感应装置，其包括有用于对圆片进行传输的上料装置，其特征在于，所述上料装置的前端部设置有感应支架，感应支架之上设置有接近开关，接近开关与上料装置彼此相对。2.按照权利要求1所述的适用于圆片光刻工艺的感应装置，其特征在于，所述感应支架与上料装置的相对端面之上设置有安置槽体，安置槽体的上端面设置有安置孔，所述接近开关通过安置孔连接至感应支架之上，接近开关的下端部延伸至安置槽体内部。3.按照权利要求2所述的适用于圆片光刻工艺的感应装置，其特征在于，所述接近开关的下端部连接有传输线缆，所述安置槽体的下端部设置有延伸孔，其与安置孔同轴延伸;所述传输线缆经由延伸孔延伸至外部。4.按照权利要求3所述的适用于圆片光刻工艺的感应装置，其特征在于，所述接近开关与安置孔上端部与下端部的连接位置分别设置有橡胶减震圈。
【专利摘要】本实用新型公开了一种适用于圆片光刻工艺的感应装置，其包括有用于对圆片进行传输的上料装置；所述上料装置的前端部设置有感应支架，感应支架之上设置有接近开关，接近开关与上料装置彼此相对；采用上述技术方案的圆片光刻工艺的感应装置，其可通过接近开关替代传统圆盘感应装置所采用的光电感应，从而使得感应装置不受圆片表面粗糙度的影响，使得感应精度得以改善，以使得加工过程中的碎片现象得以显著改善。
【IPC分类】G03F7/20
【公开号】CN205193428
【申请号】CN201520929784
【发明人】史进, 伍志军
【申请人】苏州赛森电子科技有限公司
【公开日】2016年4月27日
【申请日】2015年11月20日