技术编号:10127595
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在晶片的制造过程中,表面会有油污、化学药剂、蜡、金属的残留,清洗站用于将这些残留物清洗掉,清洗后的晶片需要进行烘干。现有的烘干装置为普通烤箱,对晶片的单一位置烘干,使晶片受热不均,导致晶片的一面烘干不到位,而另一面容易烤坏。实用新型内容本实用新型提供了一种晶片烘干装置,它结构设计合理,使用方便,能够使晶片表面均匀受热,晶片的两面均能烘干到位且不会被烤坏,解决了现有技术中存在的问题。本实用新型为解决上述技术问题所采用的技术方案是它包括工作台、一个主动齿轮和若...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。