技术编号:10232166
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。当前技术中用于辐照处理的射线源有两大类钴源和加速器。常用的加速器主要有三类电子帘、地纳米加速器、直线加速器。然而,当前技术存在以下缺陷1)在同等辐照能力下比较,钴源造价高,由于每年衰减12%,致使运行成本高,存在污染环境的潜在危险,废源处理费用极高;2)电子帘能量极低,只能处理薄膜产品,用途有限;3)直线加速器的平均输出功率低,国内现在最高能达到20kW,用于辐照处理时,生产率受限;4)地纳米加速器最高能量只能做到5MeV,穿透能力受限,用于打靶产生X射线...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。