技术编号:10536738
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。随着半导体工艺的发展,束流的稳定性及测量的精准度对于离子注入系统愈发重要,对注入产品的质量、效率和离子注入机的产业化有着很大的影响。束流采集装置在离子注入过程中起到至关重要的作用,束流采集装置是在注入工艺实现之前的前道测量系统,不论在任何时候只要硅片注入首先必须先进行束流的采集、测量。在经过精确的离子剂量校准之后才可以进行后期的工艺注入。束流采集装置在离子注入机中的重要性显而易见。发明内容本发明公开了一种离子束流采集装置,主要用于离子注入机系统,离子束流采...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。