技术编号:10618171
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。如图1所示,金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应器包括一个反应腔100,反应腔内包括一个托盘14,多个待处理的基片固定在托盘上,托盘14下方中心有一个旋转轴10驱动托盘在反应过程中高速旋转。其中旋转轴10也可以是气体承载装置,比如圆桶型结构在晶圆托盘外围支撑托盘14。托盘14下方还包括一个加热器12加热托盘14达到合适的高温,这个高温通常在1000度左右,以适应氮化镓(GaN)晶体材料的结晶生长。反应腔100内与托盘相对的是一个气体喷淋头,气体喷淋头包括...
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