技术编号:10662788
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 通过半导体领域中的多种沉积方法,含娃薄膜被制成多种形状,如娃膜、二氧化娃 膜、氮化娃膜、碳氮化娃膜、氮氧化娃膜等,并且被广泛应用于许多领域中。 特别地,二氧化娃膜和氮化娃膜可W在制造装置中起绝缘膜、防扩散膜、硬质掩 模、蚀刻停止层、巧晶层、间隔物、沟槽隔离物、金属间介电材料和保护层的作用,归因于其 显著优良的阻挡性和抗氧化性。 近期,多晶娃薄膜已经被用于薄膜晶体管(TFT)、太阳能电池等,并且因此,其应用 领域得到了改变。 作为已知用于制造含娃薄膜的典型...
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