技术编号:10693611
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。此部分说明有用的背景技术信息,而非承认本文描述的任何技术代表现有技术。原子层外延(ALE)方法由Tuomo Suntola博士于二十世纪七十年代早期发明。该方法的另一个通用名称是原子层沉积(ALD),现今被使用以取代ALE13ALD是一种基于将至少两种反应前驱体物质顺序地引入到至少一个衬底的特殊化学沉积方法。通过ALD生长的薄膜致密、无针孔且具有均匀的厚度。例如,在实验中,已通过热ALD由三甲基铝(CH3)3AK也称为TMA)和水生长氧化铝,从而得到衬底晶...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。