用ald涂层保护气体容器的内部的制作方法技术资料下载

技术编号:10693611

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此部分说明有用的背景技术信息,而非承认本文描述的任何技术代表现有技术。原子层外延(ALE)方法由Tuomo Suntola博士于二十世纪七十年代早期发明。该方法的另一个通用名称是原子层沉积(ALD),现今被使用以取代ALE13ALD是一种基于将至少两种反应前驱体物质顺序地引入到至少一个衬底的特殊化学沉积方法。通过ALD生长的薄膜致密、无针孔且具有均匀的厚度。例如,在实验中,已通过热ALD由三甲基铝(CH3)3AK也称为TMA)和水生长氧化铝,从而得到衬底晶...
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