技术编号:10988098
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在显示器制造中,基板在进行等离子体增强化学气相沉积(Plasma EnhancedChemical Vapor Deposit1n,简称PECVD)工艺时,若发生破片、偏移等问题,相应的PECVD设备便需要停机进行清理。一旦PECVD设备停机后开机,开机周期长,会造成产能的损失。而且,在生产中若不及时检测到异常的基板,还会造成PECVD设备的进一步损伤。为了解决上述技术问题,目前在PECVD设备的传送腔室(Transfer Chamber)与装载腔室(Lo...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。