技术编号：10988101
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。现有的干法刻蚀装置(以下简称干刻装置)，通常包括上部电极和下部电极，其中一个作为阳极，一个作为阴极。通过上部电极或下部电极向刻蚀腔室内通入反应气体，利用反应气体和通过施加电压生成的等离子体反应产生原子和原子团，原子和原子团与淀积在基板上的物质反应生成挥发性物质，从而进行刻蚀。目前，干刻装置广泛使用的方式是上部电极接地，下部电极在反应过程中承载待刻蚀的基板。在反应过程中，通常还需要通过下部电极的冷却气体通孔向基板背面吹流冷却气体，防止基板在工艺过程中出现膜层...
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