技术编号：11100729
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明实施例涉及用于FINFET的栅极替代工艺。背景技术半导体集成电路(IC)产业经历了指数增长。IC材料和设计的技术进步产生了数代IC，其中，每代都具有比前代更小且更复杂的电路。在IC发展过程中，功能密度(即每芯片面积上互连器件的数量)通常增大了而几何尺寸(即，使用制造工艺可以做出的最小的元件(或线))减小了。这种按比例缩小工艺通常通过增加产量效率和降低相关成本来提供很多益处。这种按比例缩小还增加了处理和制造IC的复杂程度，并且为了实现这些进步，需要在IC处理和制造中有类似的发展。例如，已经引...
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