技术编号：11174114
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种镀膜机，尤其涉及一种基片架翻转灵活的镀膜机。背景技术蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点－岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。目前，热蒸发镀膜机普遍使用的工件架系统从外形结构来说分为几大类，伞形(多片式、整体式)、行星式(平面行星式、伞形行星)、平板式(水平、斜面)等。许多镀膜产品都需要翻转驱动装置对基片进行翻转以实现双面镀膜，如申请号为201420570936.3一种可实现真空状态下自动翻片的翻转驱动装置所记载...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。