一种基片架翻转灵活的镀膜机的制作方法

文档序号:11174114阅读:423来源:国知局
一种基片架翻转灵活的镀膜机的制造方法与工艺

本实用新型涉及一种镀膜机,尤其涉及一种基片架翻转灵活的镀膜机。



背景技术:

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。目前,热蒸发镀膜机普遍使用的工件架系统从外形结构来说分为几大类,伞形(多片式、整体式)、行星式(平面行星式、伞形行星)、平板式(水平、斜面)等。许多镀膜产品都需要翻转驱动装置对基片进行翻转以实现双面镀膜,如申请号为201420570936.3一种可实现真空状态下自动翻片的翻转驱动装置所记载的一样,由翻转驱动拨盘和翻转驱动机构构成,所述翻转驱动拨盘连接固定于所述翻转镀膜治具外沿,翻转驱动拨盘上开设有至少一个卡槽,卡槽以所述翻转驱动拨盘的中心为对称中心对称排布;翻转驱动机构安装于真空镀膜机,翻转驱动机构具有至少一根可伸缩的拨杆,拨杆上套装有拨杆轴承,拨杆轴承的外轮廓尺寸与卡槽的槽口尺寸吻合适配,拨杆可伸出至拨杆轴承与卡槽滚动配合。以上可以看出,现有的基片夹具翻转系统结构复杂,翻转极不灵活。



技术实现要素:

为解决现有的基片夹具翻转系统结构复杂、翻转不灵活的缺陷,本实用新型特提供一种基片架翻转灵活的镀膜机。

本实用新型的技术方案如下:

一种基片架翻转灵活的镀膜机,包括机架,机架内设置有真空室,真空室上罩设有钟罩,真空室的上方转动设置有转台,转台的台边均匀设置有多个支板,支板的背面设置有可转动的星轮,星轮上连接有星轮轴,星轮轴穿过支板的一端连接有夹架;所述机架上设置有气缸以及与气缸活塞杆连接的拨杆,拨杆作用在星轮相邻的两个轮齿间。将待镀膜的基片卡设在夹架上,真空室内被加热的靶材蒸发后沉降在基片表面,此时拨杆处于收回状态,不会导致夹架翻转。待基片的第一面镀膜完成后,启动气缸,气缸将启动拨杆使之伸长作用在星轮的相邻两个轮齿间。星轮在转台的带动下将往前移动,由于拨杆的位置固定,星轮将实现翻转。星轮为90°四等分,每次翻转角度为90°,两次翻转即可实现第二面即背面的镀膜,以上可见,本方案的翻转系统结构简单,且翻转灵活。

为更好地实现本实用新型,所述机架上设置有支撑转台旋转的支撑装置,转台的下端设置有齿圈,机架的侧壁上设置有电机以及与电机连接的皮带轮A,机架上设置有转杆,转杆的下端设置有皮带轮B,皮带轮B与皮带轮A通过皮带传送,转杆的上端设置有与齿圈相啮合的齿轮。本方案与原有翻转系统相比,驱动方式从箱式镀膜机顶部中心驱动改为镀膜机底部侧面传动,结构紧凑,对于贵金属的热蒸发镀膜较为经济、节约。

进一步地,所述支撑装置包括支撑座,支撑座的侧壁上开设有通孔A,通孔A内设置有轴承A,轴承A中装配有转杆A,转杆A的前端连接有滚轮A,滚轮A位于转台的下端。本方案中,设置在转台下端面的滚轮A用于支承转台的旋转。

作为本实用新型的优选结构,所述机架上设置有底座,底座上开设有通孔B,通孔B内设置有轴承B,轴承B中转配有连杆B,连杆B的上端连接有与转台侧壁接触的滚轮B。在本方案中,滚轮B的设置用于在水平方向限制转台的转动范围,以保证转台的转动中心与真空室的室体中心跳动误差≤2mm。

综上所述,本实用新型的有益效果是:

1、将待镀膜的基片卡设在夹架上,真空室内被加热的靶材蒸发后沉降在基片表面,此时拨杆处于收回状态,不会导致夹架翻转。待基片的第一面镀膜完成后,气缸将启动拨杆使之伸长作用在星轮的相邻两个轮齿间。星轮在转台的带动下将往前移动,由于拨杆的位置固定,星轮将实现翻转。星轮为90°四等分,每次翻转角度为90°,两次翻转即可实现第二面即背面的镀膜,以上可见,本方案的翻转系统结构简单,且翻转灵活。

2、本方案与原有翻转系统相比,驱动方式从箱式镀膜机顶部中心驱动改为镀膜机底部侧面传动,结构紧凑,对于贵金属的热蒸发镀膜较为经济、节约。

3、本方案中,设置在转台下端面的滚轮A用于支承转台的旋转。

4、滚轮B的设置用于在水平方向限制转台的转动范围,以保证转台的转动中心与真空室的室体中心跳动误差≤2mm。

附图说明

图1为镀膜机的结构示意图;

图2为镀膜机的剖视图;

图3为支撑装置的结构示意图;

图4为底座、滚轮B的结构示意图;

其中附图标记所对应的零部件名称如下:1-机架,2-真空室,3-钟罩,4-转台,5-支板,6-星轮,7-星轮轴,8-夹架,9-气缸,10-拨杆,11-支撑装置,12-齿圈,13-电机,14-皮带轮A,15-转杆,16-皮带轮B,17-齿轮,18-支撑座,19-滚轮A,20-底座,21-连杆B,22-滚轮B。

具体实施方式

为更好地实现本实用新型,下面结合附图及具体实施例对本实用新型做进一步详细地说明,但本实用新型的实施方式并不限于此。

如图1、图2、图3、图4所示,一种基片架翻转灵活的镀膜机,包括机架1,机架1内设置有真空室2,真空室2上罩设有钟罩3,真空室2的上方转动设置有转台4,转台4的台边均匀设置有多个支板5,支板5的背面设置有可转动的星轮6,星轮6上连接有星轮轴7,星轮轴7穿过支板5的一端连接有夹架8;所述机架1上设置有气缸9以及与气缸9活塞杆连接的拨杆10,拨杆10作用在星轮6相邻的两个轮齿间。将待镀膜的基片卡设在夹架8上,真空室2内被加热的靶材蒸发后沉降在基片表面,此时拨杆10处于收回状态,不会导致夹架8翻转。待基片的第一面镀膜完成后,启动气缸9,气缸9将启动拨杆10使之伸长作用在星轮6的相邻两个轮齿间。星轮6在转台的带动下将往前移动,由于拨杆10的位置固定,星轮6将实现翻转。星轮6为90°四等分,每次翻转角度为90°,两次翻转即可实现第二面即背面的镀膜,以上可见,本实施例的翻转系统结构简单,且翻转灵活。

为更好地实现本实用新型,所述机架1上设置有支撑转台4旋转的支撑装置11,转台4的下端设置有齿圈12,机架1的侧壁上设置有电机13以及与电机13连接的皮带轮A14,机架1上设置有转杆15,转杆15的下端设置有皮带轮B16,皮带轮B16与皮带轮A14通过皮带传送,转杆15的上端设置有与齿圈12相啮合的齿轮17。本实施例与原有翻转系统相比,驱动方式从箱式镀膜机顶部中心驱动改为镀膜机底部侧面传动,结构紧凑,对于贵金属的热蒸发镀膜较为经济、节约。

进一步地,所述支撑装置11包括支撑座18,支撑座18的侧壁上开设有通孔A,通孔A内设置有轴承A,轴承A中装配有转杆A,转杆A的前端连接有滚轮A19,滚轮A19位于转台4的下端。本实施例中,设置在转台4下端面的滚轮A19用于支承转台4的旋转。

作为本实用新型的优选结构,所述机架1上设置有底座20,底座20上开设有通孔B,通孔B内设置有轴承B,轴承B中转配有连杆B21,连杆B21的上端连接有与转台4侧壁接触的滚轮B22。在本实施例中,滚轮B22的设置用于在水平方向限制转台4的转动范围,以保证转台4的转动中心与真空室2的室体中心跳动误差≤2mm。

实施例1

一种基片架翻转灵活的镀膜机,包括机架1,机架1内设置有真空室2,真空室2上罩设有钟罩3,真空室2的上方转动设置有转台4,转台4的台边均匀设置有多个支板5,支板5的背面设置有可转动的星轮6,星轮6上连接有星轮轴7,星轮轴7穿过支板5的一端连接有夹架8;所述机架1上设置有气缸9以及与气缸9活塞杆连接的拨杆10,拨杆10作用在星轮6相邻的两个轮齿间。

实施例2

本实施例在实施例1的基础上,所述机架1上设置有支撑转台4旋转的支撑装置11,转台4的下端设置有齿圈12,机架1的侧壁上设置有电机13以及与电机13连接的皮带轮A14,机架1上设置有转杆15,转杆15的下端设置有皮带轮B16,皮带轮B16与皮带轮A14通过皮带传送,转杆15的上端设置有与齿圈12相啮合的齿轮17。

实施例3

本实施例在实施例2的基础上,所述支撑装置11包括支撑座18,支撑座18的侧壁上开设有通孔A,通孔A内设置有轴承A,轴承A中装配有转杆A,转杆A的前端连接有滚轮A19,滚轮A19位于转台4的下端。

实施例4

本实施例在实施例1或实施例2或实施例3的基础上,所述机架1上设置有底座20,底座20上开设有通孔B,通孔B内设置有轴承B,轴承B中转配有连杆B21,连杆B21的上端连接有与转台4侧壁接触的滚轮B22。

如上所述,可较好地实现本实用新型。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1