技术编号：11297869
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种薄膜除臭氧装置。背景技术薄膜的加工工艺较为复杂冗长，在实际生产的过程中易产生臭氧，臭氧具有不稳定特性和很强的氧化能力，而倘若薄膜上附着有一定的臭氧气体会对其后期的加工生产有一定的影响。臭氧的半衰期一般只有三十分钟左右,一般操作人员并没有刻意去消除它,都会选择将薄膜放置在常温下,一般在三十分钟左右,臭氧就会还原成氧气，但是这一过程比较耗时，对薄膜的实际加工效率有一定的影响。本实用新型的目的旨在针对上述技术问题提供相对应的技术方案，且尽可能进行优化。实用新型内容本实用新型的设计目的...
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