技术编号:11373086
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及ITO靶材加工设备领域,尤其涉及一种用于真空热压炉的密封装置。背景技术ITO靶材主要制备方法有热等静压法、热压法和烧结法等。真空热压法是利用热能与机械性能将粉状材料置于真空和保护性气氛中的高碳模具中,高温加热到软化状态时,加压成型的工艺。由于该工艺烧结温度可依外加压力的大小而比常压烧结低约200℃~400℃,同时外加的能量使粉状材料致密化速度加快,可以在较低的温度及较短的时间内生产完成完全致密的ITO靶材产品,因此目前国内厂家普遍采用真空热压法生产ITO靶材。常规的真空热压炉其热压...
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