一种用于真空热压炉的密封装置的制作方法

本实用新型涉及ITO靶材加工设备领域，尤其涉及一种用于真空热压炉的密封装置。

背景技术：

ITO 靶材主要制备方法有热等静压法、热压法和烧结法等。真空热压法是利用热能与机械性能将粉状材料置于真空和保护性气氛中的高碳模具中，高温加热到软化状态时，加压成型的工艺。由于该工艺烧结温度可依外加压力的大小而比常压烧结低约200℃～400℃， 同时外加的能量使粉状材料致密化速度加快，可以在较低的温度及较短的时间内生产完成完全致密的ITO 靶材产品，因此目前国内厂家普遍采用真空热压法生产ITO 靶材。

常规的真空热压炉其热压装置的下压头安装于下液压油缸的推杆上，由于所述推杆穿过炉体底部带动下压头于炉体的高温区上下运动，则推杆的密封状况是影响炉体内真空度的重要因素。推杆的密封装置结构如图1所示，通常包括与炉底101’固定连接的法兰1’，所述法兰1’内安装一环形密封圈2’，所述推杆100’顺次穿过环形密封圈2’以及炉底101’进入炉体内部，当炉体抽真空作业时导致密封圈2’上部压力骤减，部分空气由密封圈下部进入炉体使密封圈与推杆之间的间隙增大，进而导致密封效力下降。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种用于真空热压炉的密封装置。

实现本实用新型目的的技术方案是，一种用于真空热压炉的密封装置，其套设于推杆的外部并与真空热压炉炉体的底部的法兰固定连接，其包括上密封座、下密封座以及双向密封圈，所述上密封座固定安装于真空热压炉炉体底部的法兰上，所述下密封座可拆卸地安装于上密封座底部并与上密封座围合成中空的双向密封圈安装空间，上密封圈以及下密封圈的内侧壁设置有密封圈固定槽；所述双向密封圈为两端内径小中间内径大的类橄榄形结构，双向密封圈的中部的外围设置有凸台，所述凸台嵌套于密封圈固定槽内，双向密封圈的两端与相对的上密封座以及下密封座之间存在密封圈活动间隙，所述推杆顺次穿过下密封座、双向密封圈以及上密封座进入炉体内部，所述上密封座、双向密封圈以及推杆围合成上气室，所述下密封座、双向密封圈以及推杆围合成下气室。

进一步地，所述凸台与密封圈固定槽固定连接。

本实用新型独创的双向密封圈结构与上、下密封座以及推杆配合，于密封装置内部分隔出上、下两个气室，当炉体抽真空时，上气室内压力骤减导致空气由双向密封圈的上部进入双向密封圈内，由于下气室内气压大于双向密封圈内部气压，则双向密封圈的下部受到下气室的压力抱紧推杆，防止漏气，从而保证了炉体的真空度；当炉体内正压状态时，上气室压力大于双向密封圈内部气压，则双向密封圈的上部受到上气室的压力抱紧推杆，保证炉体不漏气。

附图说明

图1为本实用新型背景技术所述密封装置部分剖视结构示意图；

图2为本实用新型实施例所述用于真空热压炉的密封装置剖视图；

图3为本实用新型实施例所述上、下密封座的装配结构剖视图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型较佳实施例做详细说明。

如图2和图3所示，一种用于真空热压炉的密封装置，其套设于推杆100的外部并与真空热压炉炉体的底部的法兰101固定连接，其包括上密封座11、下密封座12以及双向密封圈13，所述上密封座11固定安装于炉体底部的法兰101上，所述下密封座12可拆卸地安装于上密封座11底部并与上密封座11围合成中空的双向密封圈安装空间，上密封圈11以及下密封圈12的内侧壁设置有密封圈固定槽14；所述双向密封圈13为两端内径小中间内径大的类橄榄形结构，双向密封圈13的中部的外围设置有凸台131，所述凸台131嵌套于密封圈固定槽14内，双向密封圈13的两端与与其相对的上密封座11以及下密封座12之间存在密封圈活动间隙D，所述推杆3031顺次穿过下密封座12、双向密封圈13以及上密封座11进入炉体内部，所述上密封座11、双向密封圈13以及推杆3031围合成上气室2，所述下密封座12、双向密封圈13以及推杆3031围合成下气室3。

当炉体抽真空时，上气室2内压力骤减导致空气由双向密封圈13的上部进入双向密封圈内，由于下气室3内气压大于双向密封圈13内部气压，则双向密封圈13的下部受到下气室3的压力抱紧推杆，防止漏气，从而保证了炉体的真空度；当炉体内正压状态时，上气室2压力大于双向密封圈13内部气压，则双向密封圈13的上部受到上气室2的压力抱紧推杆，保证炉体不漏气。

本实用新型所述凸台可直接嵌套于密封圈固定槽内，也可以与密封圈固定槽固定连接，以提升双向密封圈的稳定性；本实施例中所述密封圈固定槽为上密封座与下密封座拼接而成，也可以分别在上、下密封座内侧壁分别开设密封圈固定槽，凸台的数量与密封圈固定槽的数量相匹配；本实施例中上、下密封座螺栓连接，实际装配结构不限于此，上、下密封还可以卡接或采用其他易于拆卸的装配结构连接。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书内容所作的等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。