技术编号:11388126
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及显示面板技术领域,特别是涉及一种提高阵列基板掩膜剥离效率的方法、阵列基板及显示面板。背景技术三道光罩制程技术是一种能极大化缩减显示面板的阵列基板光罩次数的新型技术,该技术不仅可节约阵列基板的制造成本,还可缩短其制作工序时间,提高产能。三道光罩制程中的剥离制程是先形成图形化的掩膜,然后在掩膜上形成透明电极层,最后通过剥离液去除掩膜及掩膜上的透明电极层,从而形成图形化的透明电极层。掩膜剥离速度跟被剥离的掩膜的整块面积有关,需要被剥离的掩膜的整块面积越大,剥离液浸润该掩膜的时间就越久,剥离时...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。