技术编号：11401064
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微纳加工领域，具体涉及一种用于压印模板的真空沉积装置。背景技术纳米压印技术，是微纳米器件制作工艺中的一个重要技术，纳米压印技术最早由StephenYChou教授在1995年率先提出，这是一种不同与传统光刻技术的全新图形转移技术。纳米压印技术的定义为：不使用光线或者辐照使光刻胶感光成形，而是直接在硅衬底或者其它衬底上利用物理学的机理构造纳米尺寸图形。软模板是一种简单方便的纳米压印模板复制材料，通常由本体材料和固化剂按一定比例混合而成，去除气泡后浇注在压印模板(母模板)表面，通过加热固化成...
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