技术编号:11444951
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及纳米结构化的嵌段共聚物的领域,所述共聚物具有在特定方向上取向(定向)的纳米域(纳米畴)且意图通过直接自组装(也已知缩写为DSA)用于纳米光刻的应用中。更特别地,本发明涉及控制包含至少一个非极性嵌段和至少一个极性嵌段的嵌段共聚物(例如,聚苯乙烯-b-聚(甲基丙烯酸甲酯),以下称作PS-b-PMMA)的合成的方法、涉及以受控方式合成的所述嵌段共聚物和涉及所述嵌段共聚物通过直接自组装在纳米光刻方法中作为掩模的用途。背景技术纳米技术的发展使得实现在微电子和特别地微电机系统(MEMS)领域中的产...
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