技术编号:11446517
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。揭示的实施方式涉及圆筒形靶材的制造方法、圆筒形溅镀靶及烧制用辅助具。背景技术先前已知有一种于圆筒形的靶材的内侧具有磁场产生装置,且一边从内侧冷却靶材,一边使靶材旋转,进行溅镀的磁控管型旋转阴极溅镀装置(magnetrontyperotarycathodsputteringdevice)。这样的溅镀装置中,靶材的外周表面的全面经侵蚀,而均匀地削去。因此,以往的平板型磁控管溅镀装置中靶材的使用效率为20至30%,相对于此,磁控管型旋转阴极溅镀装置则可获得70%以上的非常高的靶材使用效率。另外,在磁控...
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