技术编号：11458017
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及液晶显示技术领域，特别地涉及一种低温多晶硅阵列基板的制造方法。背景技术近年来，中小尺寸液晶显示器发展迅猛，液晶面板作为主流显示面板已广泛应用到人们日常生活和工作中。在液晶显示器行业的曝光制程中，需要通过曝光机的光罩进行电路图形定义，但是在曝光制程结束后基板需要经过400～600℃的高温制程，由于基板受到高温烘烤，会使基板发生热形变扩张的状况，而基板的形变会造成其上图形的形貌发生变化，使最终制程完成后的图形与目标值之间相差较大。发明内容本发明提供一种低温多晶硅阵列基板的制造方法，用于解决...
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