技术编号:11468737
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及涂层技术领域,特别涉及涂层生产中的一种靶材真空清洗隔离装置。背景技术在涂层生产过程中,通常先抽真空,加热,再清洗靶材,再进行工件离子刻蚀,最后涂层。在清洗靶材时,被涂层的工件已经在设备里面,在真空状态及480度温度下,在靶材表面形成电弧,去除靶材表面一层组织。由于现有的靶材都是敞开式的,靶材前面没有任何遮挡。从而,在靶材清洗的时候,靶材挥发产生的物质直接会接触到工件,虽然靶材清洗干净了,但是却产生了工件被靶材清洗所产生的废料污染的风险。发明内容为解决上述技术问题,本实用新型的目的在...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。