技术编号:11503109
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种GaFeO3陶瓷靶材及纳米薄膜的制备方法,属于陶瓷靶材和纳米磁性薄膜制备技术领域。背景技术纳米磁性薄膜兼有纳米和磁性薄膜的优点,在光、磁、电领域有着独特的性能,尤其是低温下更是显现出奇异的特性。在高密度磁记磁记录材料;柔性高灵敏、低耗能电力设备和电子器件;宽频吸波材料方面对当今社会的发展中有着广泛而重要的作用,成为当前研究的热点。简易溶胶-凝胶法通过喷涂沉积技术制备的纳米磁性薄膜由于内部缺陷和污染表现出的性能比较弱,不能满足精密实验和工业生产的需要。近年来发展迅速和较为成熟的脉冲激...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。