技术编号：11588876
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本公开涉及入射光的散射处于低水平且具有低的折射率的抗反射膜，并且涉及光学部件和光学部件的制造方法。背景技术迄今，为了抑制光学器件的光入射和出射界面处的反射，形成了具有几十到几百纳米的厚度且由单个光学膜或具有不同的折射率的层叠的光学膜构成的抗反射膜。为了形成抗反射膜，使用例如为气相沉积和溅射的干膜形成方法以及例如为浸涂和旋涂的湿膜形成方法。已知作为具有低的折射率的透明材料的例如为二氧化硅、氟化镁和氟化钙的无机材料以及例如为硅树脂和无定形氟树脂的有机材料被用作用于形成抗反射膜的最外层的材料。还已知为...
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