技术编号：11732700
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。放大成像光学单元和包含该成像光学单元的测量系统通过引用将德国专利申请DE102011003302.5的内容并入于此。技术领域本发明涉及放大成像光学单元，并且涉及包含该成像光学单元的测量系统。背景技术从DE10220815A1中已知，引言中提及类型的放大成像光学单元用于微光刻的掩模的特性的效应的模拟和分析。从US6,894,834B2、WO2006/0069725A1、US5,071,240、US7,623,620、US2008/0175349A1和WO2010/148293A2已知其它成像光学单...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。