技术编号：11906810
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及法兰技术领域，特别是涉及一种具有冷却回路的密封法兰。背景技术目前，一些设备通常采用密封法兰配合配件来进行气体或者液体的密封。例如，氢化物气相外延(HVPE，HydrideVaporPhaseEpitaxy)设备，该设备为化合物生长工艺设备，主要用于在高温环境下通过如H2、HCl等氢化物气体，使衬底表面外延生长一层如GaAs、GaN等的厚膜或晶体。由于H2、HCl等氢化物气体都是危险气体，需要通过密封法兰配合密封圈将这些危险气体密封在HVPE设备的石英管中，一旦泄露，将造成严重后果。然而...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。