技术编号：12071095
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种图案形成方法、利用所述图案形成方法而形成的抗蚀剂图案以及包含所述图案形成方法的电子元件的制造方法。更详细而言，本发明涉及一种在集成电路(IntegratedCircuit，简称：IC)等的半导体制造步骤，液晶、热能头等的电路基板的制造，进而其他的相片应用的光刻(lithography)步骤中使用的图案形成方法、利用所述图案形成方法而形成的抗蚀剂图案、包含所述图案形成方法的电子元件的制造方法、以及利用所述电子元件的制造方法来制造的电子元件。背景技术从前，在IC等半导体元件的制造工艺中...
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