技术编号:12214455
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及到单晶硅抛光片生产技术领域,具体的说是一种抛光机压头纯水冲洗装置。背景技术单晶硅抛光片是IC行业的基础材料,而抛光机是生产抛光片不可或缺的主要设备之一。其中由日本FUJIKOSHI公司生产的SPM-19型抛光机在目前国内的单晶硅抛光片制造厂商中得到广泛使用。该型抛光机采用化学机械抛光方式实现对单晶硅片表面的抛光处理,抛光生产过程主要分为两个阶段:抛光液抛光阶段和纯水抛光阶段。抛光时,抛光液或者纯水通过主转盘中心供液口向旋转的主转盘持续供应抛光液或者纯水,四个压头把装有硅片的陶瓷盘压...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。