技术编号:12216884
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种模具,尤其是涉及一种压靶模具。背景技术使用脉冲激光沉积、磁控溅射等设备制备氧化物、陶瓷薄膜的时候都需要靶材。一般来说,氧化物、陶瓷靶材是通过粉末压制而成。压靶模具就是将粉末压制成靶材的常用工具。在工业化生产靶材的时候,靶材的厚度要求是一定的,如何保证压制靶材的厚度均匀性是关键问题。为了实现上述目的,人们对压靶模具进行了很多的研究和改进。其中公开号为CN201320322140.1的中国专利公开了一种带有刻度的压靶模具,上模具杆的一端固定连接在模具把上,上模具杆远离模具把的一端固...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。