技术编号:12288720
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及保护膜形成用复合片,所述保护膜形成用复合片能够在半导体晶片等工件上形成保护膜,或者在对上述工件进行加工而得到的加工物(例如半导体芯片)上形成保护膜。本申请主张2014年5月23日在日本申请的日本特愿2014-106757号的优先权,在此引用了其内容。背景技术近年来,利用被称为倒装(facedown)方式的安装方法进行了半导体装置的制造。在该方法中,在安装具有形成了凸块等电极的电路面的半导体芯片时,将半导体芯片的电路面侧接合于引线框等芯片搭载部。因此,会成为未形成电路的半导体芯片背面侧露...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。