技术编号:12361452
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于纳米材料制备领域,具体涉及无机/有机纳米材料制备技术,尤其涉及纳米线的低维化方法。背景技术纳米线通常具有独特的热学、光学、电学和磁学性能,因此在微处理器、微传感器、新型光电器件和信息存储等领域有着广泛的应用。纳米线的低维化可以直接导致纳米粒子的生成,显著增加所获得的纳米粒子的数目,从而大大丰富所反向构建的纳米粒子集成体系。随着实验手段的不断发展,纳米材料的低维化越来越受到人们的重视。纳米粒子的制备可分为“自上而下”和“自下而上”两种方法。“自上而下”的方法主要是指通过机械、超声、激光、...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。