技术编号:12367928
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及平面抛光技术领域,更具体的说,尤其涉及一种能够实现下抛光盘无理数转动的机构,主要应用于电子、通信、计算机、激光、航空航天等技术领域。背景技术研磨加工已经成为高精密机械、航空航天、光电信息等领域不可或缺的一种精密加工方式,随着产品的不断升级,这些领域对工件表面加工精度和表面质量的要求也愈来愈高。平面研磨加工须确保平面度、表面粗糙度、表层及亚表层位错形态和残余应力等,研磨加工已经成为后续抛光和特种加工获取超光滑表面的必备工序,而抛光加工主要用于降低工件表面粗糙度,但是抛光时间过长会容易导致...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。