技术编号:12503375
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及气体净化技术领域,更具体地说,涉及一种酸性和碱性废气处理装置。背景技术在半导体、面板显示器、LED、太阳能和MEMS微机电等制造领域中,生产过程中都会产生废气,以半导体制造为例,清洗制程设备生产过程中排放的气体,由于其排放量较大,因此现有的处理方式为:通过中央排气管道直接输送到后端中央处理塔进行处理。但是,清洗制程设备排出气体多为酸性气体(如氢氟酸或硫酸)或碱性气体(如氨气),在排气管道中,酸性或碱性气体互相接触混合会产生化学反应,例如氟化氢气体和氨气相遇就会发生化合反应,生成氟化...
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