技术编号:12539779
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学陶瓷技术领域,尤其涉及一种适用于光学陶瓷的冷等静压方法和光学陶瓷的制备方法。背景技术光学陶瓷又称透明陶瓷,因原料类型、制法差异和所得产品品种不同,可具有耐高温、耐腐蚀、耐冲刷、高强度等优异特性,它们在激光技术、空间技术、电学、光学、化工、冶金等方面均有广泛应用。目前,常用的光学陶瓷有氧化铝、氧化镁、三氧化二钇(Y2O3)、氟化钙、氧化铍、三氧化二钆(Gd2O3)、氧化钙、氧化钍(ThO2)和锆钛酸铅镧陶瓷(PLZT)等。其中,Nd:YAG激光陶瓷作为一种激光器的激光工作介质,在检测...
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