技术编号:12612797
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及自动化技术领域,特别涉及一种半导体清洗设备工作状态的监测系统及检测方法。背景技术半导体工艺通常包括扩散、淀积、刻蚀等工序,几乎在每道工序完成之后都有清洗工艺,因此清洗设备在整个半导体生产线上地位重要,对于清洗设备的MMTR(Meantimetorestoration,平均恢复时间)指标的要求很高。如果清洗设备出现异常但不能及时处理的话,会对硅片甚至设备操作人员都造成损失。因此需要对清洗设备的各部件的状态以及清洗工艺的各步骤进行监测,以及时通知设备操作人员进行相应操作。现有技术中,通常以...
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