技术编号：12699097
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示器制备技术领域，尤其涉及一种蒸发源和蒸镀设备。背景技术真空蒸镀是指在高真空环境下对镀膜材料进行加热，使其升华并在基板上成膜。主要用于有机半导体器件如有机发光二极管中的有机功能层的制作。现在蒸镀设备主要分为内嵌式和环绕式。内嵌式设备又称为线性设备，基板在蒸镀腔中进行传送，蒸发源沿基板传送方向排列。如图1和图2所示，线性蒸发源01多为长方体结构，内部放置坩埚02，加热丝置于蒸发源两侧腔壁内，对内部坩埚进行加热。蒸发源在两端为坩埚的进出口，用于放置取出坩埚，蒸发源加热时开口处用隔热层和盲...
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