技术编号:13218587
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域在对表面进行加工时,例如在涂覆薄涂层时或在表面清理时使用不同的措施。在涂覆时,物理或化学气相沉积的方法是特别重要的。在半导体,太阳能电池和光学工业中经常将离子溅射(英文:Sputtern)用于表面涂覆,其中,通过微粒轰击从目标材料中放出颗粒,然后将颗粒安置在要涂覆的表面上。在表面清理时例如使用离子束蚀刻或等离子体蚀刻的措施。背景技术表面加工的所提到的流程通常发生在真空中或特定的气体大气环境中。在这些条件下有问题的是,技术要求频繁变换加工方法或仅具有加工质量的低连续性的方法。通常在这些情况...
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