技术编号：13532082
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻胶，具体涉及一系列含碱性香豆素结构的聚合物树脂的合成方法及包含该聚合物树脂的光刻胶组合物的制备方法，属于光刻胶技术领域。背景技术光刻胶根据在显影过程中曝光区域的去除或保留，分为正性光刻胶和负性光刻胶。其中正性光刻胶，曝光区域的光刻胶发生光化学反应，溶解于显影液中，而未曝光区域仍然保留在衬底上，将与掩膜版上相同的图形复制到衬底上。相反，负性光刻胶曝光区域的光刻胶因交联固化而不溶于显影液，将与掩膜版上相反的图形复制到衬底上。光刻胶根据作用机理不同一般又分为非化学放大光刻胶(non-CA...
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