技术编号:1361811
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型是关于一种显影制程设备,特别是关于一种应用于显影制程的基板清洗装置。背景技术微影制程主要由光阻涂覆、曝光和显影所组成。涂覆制程是将光阻均匀的涂覆在基板表面;曝光制程是利用光阻感光的特性将光罩上的图案转移到光阻上面;显影制程是使用显影液将不必要的光阻去除,使图形完整的显现在基板上。就显影制程而言,业界一般是利用玻璃和显影液喷嘴之间的相对移动来实现显影液涂覆至玻璃基板表面,然后静置一段时间待反应完成后,再将玻璃基板表面的显影液移除。请参阅图1,是一现...
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