技术编号:1388616
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种半导体晶片清洗装置,特别涉及一种改进的半导体晶片清洗装置,该装置在安装晶片的舟上设置杂质析取管,并将从晶片上和舟上去除的杂质排放到内槽外,所以,可以防止正在被清洗的晶片被污染,从而可增强系统的清洗效果。在制造高集成度半导体器件时,晶片表面上的微细颗粒会严重损害器件特性。因此,近来,能有效地清洗晶片表面上的微细颗粒的清洗技术被认为是本行业最重要的技术。在LSI技术中,2μm半导体器件已实际用于产业中。在制造这种半导体器件时,在制造这种高集成度半...
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