技术编号：14032151
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种用于电子束真空镀膜工艺的低温泵。背景技术目前，传统的电子束真空镀膜机是利用分子泵抽真空，属于真空蒸发技术，必须在高真空条件下进行，如果在真空室残留大量气体分子，则会产生如下不利影响：a)残留的水气、油气、空气分子会附着在晶片表面，影响金属膜与基片的粘附效果；b)蒸发粒子受气体分子碰撞几率增多，会改变其直线运动方向，使蒸发粒子与基片表面结合的能量减弱，影响蒸发速率，影响平整均匀金属薄膜的形成；c)残余气体分子会与蒸发源、蒸发粒子发生化学反应生成化合物...
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