本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种用于电子束真空镀膜工艺的低温泵。
背景技术：
目前，传统的电子束真空镀膜机是利用分子泵抽真空，属于真空蒸发技术，必须在高真空条件下进行，如果在真空室残留大量气体分子，则会产生如下不利影响：
a)残留的水气、油气、空气分子会附着在晶片表面，影响金属膜与基片的粘附效果；
b)蒸发粒子受气体分子碰撞几率增多，会改变其直线运动方向，使蒸发粒子与基片表面结合的能量减弱，影响蒸发速率，影响平整均匀金属薄膜的形成；
c)残余气体分子会与蒸发源、蒸发粒子发生化学反应生成化合物，影响蒸发速率，影响薄膜质量，为了获得良好的薄膜，通常要求真空度应大于1.3×10-3Pa，蒸发源与基片间的距离应保持在分子平均自由程的1/10以下。
另外，由于分子泵是一种高速旋转的机械泵，因此对平衡的要求很高，对固体异物非常敏感，通常要在分子泵的入口处安装金属过滤网，在工作过程中，如果压强突然恶化，则有可能损坏叶片，从而影响抽真空效率。
技术实现要素：
本实用新型的目的是提供一种用于电子束真空镀膜工艺的低温泵，利用该低温泵代替原有的分子泵，从而提高电子束真空镀膜机的抽真空效率，提高了电子束真空镀膜机成膜的质量。
一种用于电子束真空镀膜工艺的低温泵，所述低温泵包括一级冷头、二级冷头、活性炭吸附剂、百叶窗挡板、制冷驱动装置和泵壳，其中：
在所述一级冷头上设置有屏蔽罩和百叶窗挡板；
所述一级冷头的上端连接至二级冷头，且在所述二级冷头上设置有低温罩和活性炭吸附剂；
所述制冷驱动装置连接并驱动所述一级冷头和二级冷头制冷。
所述泵壳为低温泵的外壳，包覆所述一级冷头、二级冷头、活性炭吸附剂和百叶窗挡板。
由上述本实用新型提供的技术方案可以看出，利用上述低温泵代替原有的分子泵，从而提高电子束真空镀膜机的抽真空效率，提高了电子束真空镀膜机成膜的质量，进而解决了分子泵在压强突然恶化时损坏叶片的隐患。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他附图。
图1为本实用新型所提供用于电子束真空镀膜工艺的低温泵的整体示意图。
具体实施方式
下面结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型的保护范围。
下面将结合附图对本实用新型实施例作进一步地详细描述，如图1所示为本实用新型所提供用于电子束真空镀膜工艺的低温泵的整体示意图，所述低温泵包括一级冷头1、二级冷头2、活性炭吸附剂3、百叶窗挡板4、制冷驱动装置5和泵壳6，其中各部件的连接关系为：
在所述一级冷头1上设置有屏蔽罩和百叶窗挡板4，且所述一级冷头1的温度维持在80k；
所述一级冷头1的上端连接至二级冷头2，所述二级冷头2的温度维持在15k，且在所述二级冷头2上设置有低温罩和活性炭吸附剂3；
所述制冷驱动装置5连接并驱动所述一级冷头1和二级冷头2。
利用气体在超低温表面发生物理吸附而达到排气的效果，进而快速、有效地获得洁净的真空，具体实现过程中：
水蒸气凝固在80k屏蔽罩和80k百叶窗挡板4上；
氮气、氢气、氩气凝固在15k低温罩上；
氢气、氦气、氖气被吸附在15k低温罩内侧的活性炭吸附剂3上。
另外，上述泵壳6为低温泵的外壳，包覆所述一级冷头1、二级冷头2、活性炭吸附剂3和百叶窗挡板4。
上述结构的低温泵能够达到极高真空(10-11pa)，有排气速度快、无油和安装方向不受限制等优点。另外，低温泵可以对所有气体排气，但是如果吸附的气体量过多，则排气速度降低，这时需要将低温泵加热，排出吸附的气体后，重新使用。
综上所述，本实用新型所提供的低温泵可以在不改动电子束真空镀膜机其他部件的情况下，替换原有分子泵，解决了分子泵在压强突然恶化时损坏叶片的隐患，提高了电子束真空镀膜机的抽真空效率，进而提高了成膜质量及效率。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型披露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。