技术编号:14039964
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请要求德国专利申请10 2015 213 275.7的优先权,其内容通过引用并入本文。技术领域本发明涉及光刻曝光设备的反射镜布置,还涉及包括这种反射镜布置的光学系统。背景技术目前主要的光刻曝光方法用来制造半导体部件(例如计算机芯片)和其他精细结构部件。在这种情况下,使用掩模(掩模母版)或其他承载或形成待成像的结构的图案的图案装置,例如半导体部件的层的线形图案。图案定位在光刻曝光设备中,在照明系统和投射物镜之间位于投射物镜的物平面的区域内,并且以由照明系统提供的照明辐射照明该图案。由图案改变的...
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