技术编号:1432161
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种,包括以下步骤⑴、配制浓度为5~11%的氢氧化钠溶液,加热至50~90℃;⑵、将需要清洗的硅料置于步骤⑴氢氧化钠溶液中2~3分钟,捞出硅料;⑶、依次用浓度为20~30%的盐酸溶液和纯水冲洗硅料。采用碱液来清洗硅料,减少废气的排放量;不产生氮氧化合物,减少对环境的污染;减少酸的用量,降低了生产成本;现在一吨硅料需要氢氧化钠10Kg,盐酸50kg。还降低了硅料的损耗,提高了操作人员的安全性。专利说明[0001]本发明涉及半导体材料,尤其是一种。...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。