技术编号:1434207
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种水基硅片清洗剂,由下列重量份的原料制成硼酸钠2-3、焦磷酸钾1-2、椰子油烷基醇酰胺磷酸酯3-4、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠4-5、柠檬酸2-3、乙醇30-40、助剂4-5、去离子水100-120。本发明的清洗剂对有机物、金属离子、颗粒等有快速的清除能力,对硅片无腐蚀;损耗更少,降低成本,节约时间、从而大大的减少硅片废品率,以及更快的制造出数量更多的,质量更好的硅片。本发明的助剂能够在硅片表面形成保护膜,隔绝空气,防止大气中水及其他分子腐蚀硅片,抗氧化,方...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。