技术编号：14517754
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种基准器、分光干涉式测量装置、涂布装置、分光干涉式测量装置的测量精度保证方法以及涂布膜的制造方法。背景技术以往，通过对片材涂布涂布液来制造涂布膜。例如，通过在作为片材的基材上涂布粘合剂等涂布液来制造涂布膜。作为这种涂布膜的制造方法，使用了如下方法：使用具备在片材上涂布涂布液来形成涂布膜的涂布部、以及测量该涂布膜的厚度的作为膜厚测量部的分光干涉式测量装置的涂布装置，一边测量涂布膜的厚度一边在片材上涂布涂布液来制造涂布膜。但是，在上述涂布膜的制造方法中，当分光干涉式测量装置的测量精度偏离...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。