基准器、测量和涂布装置、测量精度保证和膜制造方法与流程

本发明涉及一种基准器、分光干涉式测量装置、涂布装置、分光干涉式测量装置的测量精度保证方法以及涂布膜的制造方法。

背景技术：

以往，通过对片材涂布涂布液来制造涂布膜。例如，通过在作为片材的基材上涂布粘合剂等涂布液来制造涂布膜。

作为这种涂布膜的制造方法，使用了如下方法：使用具备在片材上涂布涂布液来形成涂布膜的涂布部、以及测量该涂布膜的厚度的作为膜厚测量部的分光干涉式测量装置的涂布装置，一边测量涂布膜的厚度一边在片材上涂布涂布液来制造涂布膜。

但是，在上述涂布膜的制造方法中，当分光干涉式测量装置的测量精度偏离期望的精度时，难以充分地管理膜厚，其结果，导致所形成的涂布膜的厚度产生偏差。

另一方面，提出了一种提高光学式测量装置的测量精度的方法。

例如提出了如下一种方法：使用基准反射板，向该基准反射板照射光并测量所反射的光的光量，基于该测量结果来对所接收的光的量进行校正(参照专利文献1)。

专利文献1：日本特开2002-39955号公报

技术实现要素：

发明要解决的问题

但是，即使使用上述专利文献1所记载的基准反射板来对所接收的光的量进行校正，也很难说能够充分地保证测量厚度的分光干涉式测量装置的测量值具有规定范围内的精度。另外，在使用上述基准反射板的情况下，难以高精度地制作与各种测量对象物对应的基准反射板。

鉴于上述情况，本发明的课题在于提供一种能够与测量对象物无关地高精度且简单地制作的基准器以及使用该基准器的分光干涉式测量装置、涂布装置、分光干涉式测量装置的测量精度保证方法以及涂布膜的制造方法。

用于解决问题的方案

本发明的发明人在对上述课题进行专门研究后发现：在上述专利文献1的技术中，将光量设为基准而没有将厚度本身设为基准，因此难以保证分光干涉式测量装置的测量值高精度地收敛在规定范围内。

另一方面，为了保证分光干涉式测量装置的测量值高精度地收敛在规定范围内，作为参考而将与测量的对象物同等程度的厚度设为基准是有效的。

在此，例如还考虑采用片状体的厚度来作为基准值。

但是，根据测量对象物不同，难以以能够成为参考的精度来制作这种片状体。

因此，本发明的发明人进一步进行专门研究后发现：作为基准器，使用具备形成有槽部的非透光性的第一块体、以及以覆盖该槽部的方式层叠于第一块体的透光性的第二块体的基准器，由分光干涉式测量装置经由第二块体向槽部照射光，接收由来自第二块体的靠第一块体侧的面的反射光和来自槽部的底面的反射光形成的干涉光，由此该干涉光与槽部的深度对应。

而且，发现通过接收与槽部的深度对应的规定的干涉光来测量该槽部的深度并通过采用该槽部的深度来作为基准的厚度，能够保证分光干涉式测量装置的测量值为规定范围内的精度，从而完成本发明。

即，本发明所涉及的基准器用于保证测量对象物的厚度的分光干涉式测量装置的测量值具有规定范围内的精度，所述基准器构成为，具备：非透光性的第一块体；以及透光性的第二块体，其层叠于所述第一块体，其中，所述第一块体在靠所述第二块体侧的面具有槽部，由所述分光干涉式测量装置经由所述第二块体向所述第一块体的所述槽部照射光，由来自所述第二块体的靠所述第一块体侧的面的反射光和来自所述槽部的底面的反射光形成与所述槽部的深度对应的规定的干涉光。

在上述结构的基准器中，优选的是，所述第一块体由金属材料形成。

在上述结构的基准器中，也可以是，所述金属材料含有从由不锈钢、铁、铜以及铝组成的群中选择的一种以上的金属材料。

在上述结构的基准器中，优选的是，所述第二块体的针对波长为550nm的光的透过率为80％以上。

在上述结构的基准器中，优选的是，所述第一块体的靠所述第二块体侧的面的平面度和平行度以及所述第二块体的靠所述第一块体侧的面的平面度和平行度均为10μm以下。

在上述结构的基准器中，优选的是，还具备按压部，该按压部将所述第二块体向所述第一块体按压。

在上述结构的基准器中，也可以是，所述槽部的深度为1μm～300μm。

本发明所涉及的分光干涉式测量装置向对象物照射光，并接收来自该对象物的干涉光来测量该对象物的厚度，所述分光干涉式测量装置具备：所述基准器；分光干涉式测量部，其构成为向所述对象物照射光来测量该对象物的厚度，并且向所述基准器的槽部照射光来测量该槽部的深度；以及判定部，其判定由所述分光干涉式测量部测量出的所述槽部的深度的测量值是否收敛在规定范围内。

本发明所涉及的涂布装置构成为，具备：涂布部，其向相对地进行移动的片材上涂布涂布液来形成涂布膜；膜厚测量部，其对利用所述涂布部在所述片材上形成的所述涂布膜的厚度进行测量；以及控制部，其控制由所述膜厚测量部进行的对所述涂布膜的厚度的测量以及由所述涂布部进行的所述涂布液的涂布，其中，所述膜厚测量部是所述分光干涉式测量装置，在由所述膜厚测量部测量出的所述槽部的深度的测量值收敛在规定范围内时，所述控制部使所述膜厚测量部测量所述涂布膜的厚度并且使所述涂布部涂布所述涂布液。

在本发明所涉及的分光干涉式测量装置的测量精度保证方法中，所述分光干涉式测量装置向对象物照射光，并接收来自该对象物的干涉光来测量该对象物的厚度，所述分光干涉式测量装置的测量精度保证方法保证所述分光干涉式测量装置的测量值具有规定范围的精度，在所述方法中：使用所述基准器，由所述分光干涉式测量装置测量所述基准器的槽部的深度，判定所测量出的所述槽部的深度的测量值是否收敛在规定范围内，由此保证所述分光干涉式测量装置的测量值具有所述规定范围内的精度。

本发明所涉及的涂布膜的制造方法在相对地进行移动的片材上涂布涂布液来形成涂布膜，在所述涂布膜的制造方法中，使用所述分光干涉式测量装置测量所述基准器的槽部的深度，在测量出的所述槽部的深度的测量值收敛在规定范围内时，使用所述分光干涉式测量装置测量所述涂布膜的厚度，并且在所述片材上涂布所述涂布液。

附图说明

图1是表示具备具有本发明的一个实施方式所涉及的基准器的分光干涉式测量装置的涂布装置的概要侧视图。

图2是从图1的ii-ii箭头方向观察的截面图。

图3是表示图2的分光干涉式测量装置的分光干涉式测量部的测头部移动的状态的概要侧视图。

图4是表示本实施方式的基准器的概要侧视图。

图5是表示图4的基准器的槽部周边的局部放大侧视图。

图6是表示本实施方式的基准器的概要俯视图。

图7是表示组装有图4的基准器的状态的概要侧视图。

图8是表示本实施方式的涂布装置的控制过程的流程图。

附图标记说明

1：涂布装置；3：涂布液；13：涂布部；21：膜厚测量部(分光干涉式测量装置)；23：分光干涉式测量部；23a：测头部；23b：光源部；23c：分光部；23d：连接线缆；25：移动机构；27：判定部；28：控制部；29：显示部；30：基准器；31：第一块体；31a：第一块体的靠第二块体侧的面；31b：第一块体的靠与第二块体侧相反的一侧的面；33：槽部；33a：底面；35：第二块体；35a：第二块体的靠第一块体侧的面；35b：第二块体的靠与第一块体相反的一侧的面；37：按压部；d：槽部的深度的测量值；s：基准值；40：涂布膜。

具体实施方式

以下，参照附图来对本发明的实施方式所涉及的基准器以及使用该基准器的分光干涉式测量装置、涂布装置、分光干涉式测量装置的测量精度保证方法以及涂布膜的制造方法进行说明。

首先，对具备具有本实施方式的基准器的分光干涉式测量装置来作为膜厚测量部的涂布装置进行说明。

如图1和图2所示，本实施方式的涂布装置1具备：涂布部13，其将涂布液3依次涂布到沿长边方向朝下游侧(参照实线箭头)相对地进行移动的带状的片材11上来形成涂布膜40；膜厚测量部21，其对通过该涂布而在片材11上形成的涂布膜40的厚度进行测量；以及控制部28，其控制由膜厚测量部21进行的对涂布膜40的厚度的测量以及由涂布部13进行的涂布液3的涂布。另外，涂布装置1具备固化部15，该固化部15使被涂布到片材11上的涂布液3固化。

涂布装置1还具备：收纳部5，其用于收纳涂布液3；配管9，其用于从收纳部5向涂布部13输送涂布液3；以及送液机构7，其配置于该配管9，将涂布液3从收纳部5向涂布部13输送。

所述涂布液3被涂布到片材11上并在该片材11上被固化。作为这种涂布液3，例如能够列举热固化性材料、紫外线固化性材料、电子束固化性材料之类的含有固化成分的聚合物溶液。上述涂布液3能够被固化部15固化。

收纳部5用于收纳涂布液3，作为收纳部5，例如能够列举金属制的容器。

送液机构7具有从收纳部5向涂布部13输送涂布液3的送液部7a以及驱动该送液部7a的送液用驱动部7b。作为送液部7a，例如能够列举泵等。作为送液用驱动部7b，例如能够列举电动机等。送液用驱动部7b构成为与控制部28电连接，由控制部28来控制该送液用驱动部7b的驱动及驱动停止。

配管9构成供涂布液3移动的路径。作为配管9，例如能够列举金属制的管等。

作为所述片材11，例如能够列举树脂膜。在图1中，示出片材11为具有挠性的长条状的方式，但除此以外，也可以采用单板状的方式、不具有挠性的方式。

所述涂布部13将涂布液3依次涂布到例如被辊等支承部19支承并相对于该涂布部13向下游侧相对地进行移动的带状的片材11上。作为上述涂布部13，例如能够列举涂布器等。

所述固化部15使被涂布到片材11上的涂布液3固化。作为固化部15，例如根据涂布液3的种类而能够列举干燥装置、加热装置、紫外线照射装置、电子束照射装置等。此外，根据涂布液3的种类，还能够采用涂布装置1不具备固化部15的方式。

所述支承部19从沿长边方向移动的片材11的与涂布部13相反的一侧支承该片材11。作为上述支承部19，能够列举辊等。

作为所述膜厚测量部21，能够采用分光干涉式测量装置21。

如图2和图3所示，该分光干涉式测量装置21向在作为对象物的片材11上形成的涂布膜40照射光，并接收来自该涂布膜40的干涉光来测量该涂布膜40的厚度，该分光干涉式测量装置21具备：基准器30，其用于保证测量涂布膜40的对象物的厚度的分光干涉式测量装置21的测量值具有规定范围内的精度，该基准器30具有槽部33；分光干涉式测量部23，其构成为向涂布膜40照射光来测量该涂布膜40的厚度，并且向基准器30的槽部33照射光来测量该槽部33的深度；判定部27，其判定由分光干涉式测量部23测量出的槽部33的深度的测量值d是否收敛在规定范围r内；以及显示部29，其显示判定部27的判定结果。

此外，在图2和图3中，虚线箭头表示从分光干涉式测量部23照射的光l。

如图3～图5所示，基准器30用于保证作为分光干涉式测量装置21的膜厚测量部21的测量值具有规定范围r内的精度，该基准器30构成为，具备：非透光性的第一块体31；以及透光性的第二块体35，其层叠于所述第一块体31，其中，所述第一块体31在靠所述第二块体35侧的面31a具有槽部33，由所述分光干涉式测量装置21经由所述第二块体35向所述第一块体31的所述槽部33照射光，由来自所述第二块体35的靠所述第一块体31侧的面35a的反射光和来自所述槽部33的底面33a的反射光形成与槽部33的深度对应的规定的干涉光。

即，构成为：由所述分光干涉式测量装置21接收由来自所述第二块体35的靠所述第一块体31侧的面35a的反射光和来自所述槽部33的底面33a的反射光形成的干涉光，由此测量所述槽部33的深度来作为基准的厚度。

另外，基准器30还具备按压部37，该按压部37将所述第二块体35向所述第一块体31按压。

第一块体31具有非透光性即可，其形成材料没有特别限定。

例如，优选第一块体31由金属材料形成。

通过使第一块体31由金属材料形成，能够抑制因溶剂气氛、环境温度、环境湿度等环境条件引起的变形。

因而，上述基准器能够用于更高精度地保证分光干涉式测量装置的测量值为规定范围内的精度。

作为形成第一块体31的金属材料，能够列举从由不锈钢、铁、铜以及铝组成的群中选择的一种以上的金属材料。

在此，在第一块体31的形成材料不充分地反射光的情况下，该第一块体31的槽部33的底面33a不充分地反射光，其结果，上述干涉光的测量精度有可能降低。

但是，通过使第一块体31由含有从由不锈钢、铁、铜以及铝组成的群中选择的一种以上金属的金属材料形成，从而在槽部33的底面33a更易于反射光，因此能够更高精度地测量上述干涉光。

因而，上述基准器30能够更高精度地使用于结构。

在这些金属材料中，从强度和加工难易度方面考虑，优选上述金属材料为不锈钢。

第一块体31的大小没有特别限定，能够根据槽部33的大小(宽度、长度以及深度)来适当地设定。

第一块体31的形状也没有特别限定。例如，在图6所示的方式中，第一块体31形成为矩形板状。

槽部33以其底面33a的中央部与第一块体31的靠第二块体35侧的面31a平行的方式形成。由此，由槽部33的底面33a反射的反射光与由第二块体35的靠第一块体31侧的面35a反射的反射光之间发生干涉，由此，能够高精度地测量槽部33的深度(测量值d)。

槽部33的大小(宽度和长度)、形状没有特别限定。

槽部33的深度也没有特别限定。

例如，槽部33的深度可以为1μm～300μm。

通过使槽部33的深度为1μm～300μm，在片材11上的涂布膜40为1μm～300μm左右的情况下，基准器30对于膜厚测量部21而言是合适的。

第二块体35具有透光性，覆盖第一块体31的槽部33并且层叠于该第一块体31。

第二块体35具有透光性即可，其形成材料没有特别限定。

例如，优选第二块体35的针对波长为550nm的光的透过率为80％以上。

上述透过率是在常温下通过分光透过率测定而测定出的值。

在此，在第二块体35不使光充分地透过的情况下，上述干涉光的测量精度有可能降低。

但是，通过使第二块体35的针对波长为550nm的光的透过率为80％以上，第二块体35能够使光充分地透过，因此能够更高精度地测量上述干涉光。

因而，上述基准器30能够用于更高精度地保证膜厚测量部21的测量值在规定范围r内。

作为这种第二块体35的形成材料，例如能够列举玻璃材料、树脂材料等。

第二块体35的大小没有特别限定，能够根据第一块体31的大小来适当地设定。

第二块体35的形状也没有特别限定。例如在图6所示的方式中，第二块体35形成为圆盘状。

第二块体35既可以直接层叠于第一块体31，也可以隔着其它构件层叠于第一块体31。

此外，在第二块体35隔着其它构件层叠于第一块体31的情况下，在该其它构件的与槽部33对应的位置形成有贯穿孔的情况下，槽部33的深度相当于该槽部33自身的深度与该其它构件的厚度之和。

在本实施方式的基准器30中，优选的是，第一块体31的靠第二块体35侧的面31a的平面度和平行度以及第二块体35的靠第一块体31侧的面35a的平面度和平行度均为10μm以下。此外，上述平面度是面31a的平面度和面35a的平面度。面31a的平行度是指面31a同第一块体31中的与面31a相反的一侧的面31b之间的平行度，面35a的平行度是指面35a同第二块体35中的与面35a相反的一侧的面35b之间的平行度。

上述平行度和平面度是在常温下由三维测定仪测定的值。

更优选的是，第一块体31的靠第二块体35侧的面31a的平面度和平行度均为3μm以下。具有这种面31a的第一块体31例如通过对由其形成材料形成的块体的表面和背面进行研磨来获得。

更优选的是，第二块体35的靠第一块体31侧的面35a的平面度和平行度均为3μm以下。作为具有这种面35a的第二块体35，例如能够列举三丰公司(ミツトヨ社)生产的商品名为opticalparallel(オプチカルパラレル，平面度：0.1μm，平行度：0.2μm)的块体。

另外，在本实施方式的基准器30中，除了上述以外还优选的是，第一块体31的槽部33的底面33a的平面度和平行度均为10μm以下。此外，底面33a的平行度是指底面33a同第一块体31中的与面31a相反的一侧的面31b之间的平行度。

上述平行度和平面度是与上述同样地测定的值。

更优选的是，第一块体31的槽部33的底面33a的平面度和平行度均为3μm以下。具有这种底面33a的槽部33例如通过对该底面33a进行研磨来获得。

在此，在第一块体31的靠第二块体35侧的面31a的平面度及第二块体35的靠第一块体31侧的面35a的平面度过大或者它们的平行度过大的情况下，上述干涉光的测量精度有可能降低。

但是，通过使第一块体31的靠第二块体35侧的面31a的平面度和平行度以及第二块体35的靠第一块体31侧的面35a的平面度和平行度均为10μm以下，能够抑制上述干涉光的测量精度的降低。

另外，在第一块体31的槽部33的底面33a的平面度过大或者平行度过大的情况下，上述干涉光的测量精度有可能降低。

但是，通过使底面33a的平面度和平行度均为10μm以下，能够抑制上述干涉光的测量精度的降低。

所述按压部37将第二块体35向第一块体31按压。

基准器30具备上述按压部37，由此第二块体35被固定于第一块体31，因此与第二块体35不被固定于第一块体31的情况相比，能够抑制上述干涉光的测量精度的降低。

因而，上述基准器30能够用于更高精度地保证膜厚测量部21的测量值为规定范围内的精度。

另外，在具备上述按压部37的基准器30中，如果第一块体31的靠第二块体35侧的面31a的平面度和平行度以及第二块体35的靠第一块体31侧的面35a的平面度和平行度均大于10μm(即面31a和面35a粗糙)，则第二块体35在被按压部37按压时存在发生破损的情况，其结果，上述干涉光的测量精度有可能降低。

但是，在具备上述按压部37的基准器30中，通过使第一块体31的靠第二块体35侧的面31a的平面度和平行度以及第二块体35的靠第一块体31侧的面35a的平面度和平行度均为10μm以下，能够抑制因这种破损导致的测量精度的降低。

作为上述按压部37，能够列举如下按压部，该按压部具有：钩挂部37a，其钩挂于第二块体35的靠与第一块体31相反的一侧的面(外面)35b的周缘部，将第二块体35向第一块体31按压并固定于该第一块体31；固定部37b，其将该钩挂部37a以紧固的方式固定于第一块体31；以及开口部37c，其使从分光干涉式测量装置21照射的光通过第二块体35和第一块体31。

另外，作为固定部37b，采用了螺丝。

具体地说，固定部37b贯穿钩挂部37a的贯穿孔37aa并被紧固于第一块体31的被固定部(在此为螺丝孔)31c，由此钩挂部37a将第二块体35向第一块体31按压并固定于第一块体31。

另外，按压部37构成为经由密封件等中间构件39而与第二块体35接触。

即，如图4所示，第二块体35层叠于第一块体31，按压部37经由中间构件39而与第二块体35接触，并且按压部37的钩挂部37a钩挂于第二块体35的靠与第一块体31相反的一侧的面35b的周缘部，在该状态下，利用固定部37b将钩挂部37a与第一块体31以紧固的方式固定，由此将第二块体35按压并固定于第一块体31。

中间构件39的形状没有特别限定，但例如能够根据第二块体35的形状和开口部37c的形状适当地设定。在图6所示的方式中，中间构件39形成为环状。

在本实施方式中，基准器30以在片材11的宽度方向上与该片材11相分离的方式配置于片材11的外侧。

分光干涉式测量部23构成为向涂布膜40照射光来测量涂布膜40的厚度，并且向基准器30的槽部33照射光来测量槽部33的深度。

即，分光干涉式测量部23构成为向形成有涂布膜40的片材11照射光，接收由来自涂布膜40的外表面的反射光和来自片材11的靠涂布膜40侧的面的反射光形成的干涉光，来测量该涂布膜40的厚度。除此以外，分光干涉式测量部23构成为向基准器30的槽部33照射光，接收由来自基准器30的第二块体35的靠第一块体31侧的面35a的反射光和来自槽部33的底面33a的反射光形成的干涉光，来测量该槽部33的深度(测量值d)。

如图2和图3所示，分光干涉式测量部23具有：测头部23a，其构成为照射并接收光；光源部23b，其产生从测头部23a照射的光；分光部23c，其将由测头部23a接收到的光进行分光后作为干涉光的波形取入；连接线缆23d，其将测头部23a与光源部23b及分光部23c以光学方式连接；运算部23e，其与分光部23c电连接，根据由分光部23c获取到的干涉光的波形来计算槽部33的深度；以及移动机构25，其使测头部23a移动。

测头部23a能够通过移动机构25而沿片材11的宽度方向移动到能够测量涂布膜40的厚度的第一位置a和能够测量基准器30的槽部33的深度的第二位置b。

在图3的方式中，第一位置a包括能够对涂布膜40的宽度方向上的一端部的厚度进行测量的位置a1和能够对涂布膜40的宽度方向上的另一端部的厚度进行测量的位置a2。第二位置b能够被设为从片材11向该片材11的宽度方向外侧离开的位置且测头部23a能够经由基准器30的第二块体35向第一块体31的槽部33的底面33a的中央部照射光的位置。

测头部23a、光源部23b、分光部23c以及连接线缆23d没有特别限定，例如能够采用各市场销售品。

移动机构25例如具有：可动部25a，其能够沿片材11的宽度方向移动，测头部23a固定于该可动部25a；以及电动机等移动用驱动部25b，其驱动该可动部25a。

运算部23e构成为根据由分光部23c取入的干涉光的波形来计算槽部33的深度的测量值d。

作为运算部23e，能够列举个人计算机等。

判定部27判定由分光干涉式测量部23测量出的槽部33的深度的测量值d是否在规定范围r内。

具体地说，判定部27接收从分光干涉式测量部23的运算部23e发送来的槽部33的深度的测量值d，并判定该测量值d是否在规定范围r内。

在判定部27中存储有厚度的基准值s和包含对于该基准值s而言允许的误差δs的规定范围(s±δs的范围、即(s-δs)以上且(s+δs)以下的范围)r。

使用被校准后的、精度比分光干涉式测量部23的精度高的另外的测量装置，利用该测量装置测量槽部33的深度d，由此预先获得基准值s。

判定部27当接收到由分光干涉式测量部23测量出的槽部33的深度的测量值d时，判定d是否收敛在规定范围r内、即是否收敛在(s-δs)≤d≤(s+δs)的范围内。

所允许的误差δs例如优选为基准值s的1％～10％，更优选为基准值s的3％～7％。

另外，例如在基准值s为1μm～300μm(即，槽部33的深度为1μm～300μm)的情况下，所允许的误差δs能够被设定为0.5μm～15μm左右。

作为这种判定部27，能够列举可编程逻辑控制器(plc)等。在本实施方式中，判定部27内置于控制部28内。即，作为控制部28的功能之一，判定部27执行槽部33的深度的测量值d是否在规定范围r内的判定。

控制部28从膜厚测量部21的判定部27接收判定结果，在由判定部27判定为槽部33的深度的测量值d收敛在规定范围r内时，控制部28使移动机构25将分光干涉式测量部23的测头部23a移动到第一位置a，使分光干涉式测量部23测量涂布膜40的厚度，并且使送液机构7将涂布液3从收纳部5输送到涂布部13，使涂布部13将涂布液3涂布到片材11上(形成涂布膜40)。

另一方面，在由判定部27判定为槽部33的深度的测量值d不收敛在规定范围r内时，控制部28不使膜厚测量部21测量涂布膜40的厚度，不使涂布部13将涂布液3涂布到片材11上(不形成涂布膜40)。

控制部28判定涂布膜40的数量是否达到规定数量、即是否结束涂布。

此外，在涂布装置1中，也可以采用不具有控制部28基于判定部27的判定结果来控制涂布部13的涂布及涂布的停止的功能的方式。在该方式中，在使用涂布装置1时，能够由操作员控制涂布部13的涂布及涂布的停止。

具体地说，如图8所示，当涂布装置1的动作开始时，控制部28使分光干涉式测量部23的移动机构25将测头部23a移动到第二位置b(步骤s1)，使分光干涉式测量部23在第二位置b处测量基准器30的槽部33的深度(步骤s2)。

接着，控制部28使判定部27判定由分光干涉式测量部23测量出的槽部33的深度的测量值d是否收敛在规定范围r内、即是否收敛在(s-δs)≤d≤(s+δs)的范围内(步骤s3)。

在判定为槽部33的深度的测量值d在规定范围r内的情况下，控制部28使分光干涉式测量部23的移动机构25将测头部23a移动到第一位置a并使分光干涉式测量部23测量涂布膜40的厚度，并且使送液机构7从收纳部5向涂布部13输送涂布液，使涂布部13将涂布液3涂布到片材11上来形成涂布膜40(步骤s4)。

接着，控制部28判定是否结束涂布(步骤s5)，在判定为不结束涂布的情况下，返回到步骤s4，反复进行步骤s4。控制部28在步骤s5中判定为结束涂布的情况下，使分光干涉式测量部23停止测量涂布膜40的厚度，使送液机构7停止从收纳部5向涂布部13输送涂布液3来使涂布部13停止涂布液3的涂布，结束涂布装置1的动作。

另一方面，在步骤s3中由判定部27判定为槽部33的深度的测量值d不收敛在规定范围r内的情况下，控制部28不使分光干涉式测量部23测量涂布膜40的厚度，不使涂布部13涂布涂布液3(步骤s7)。在该情况下，在由分光干涉式测量部23正在进行测量并且由涂布部13正在进行涂布的情况下，停止该测量和涂布。并且，控制部28使显示部29显示“异常停止”(步骤s8)，使涂布装置1的动作结束。此外，在步骤s8中也可以是，发出报警器等的警告音来代替由显示部29显示“异常停止”，或者在显示部29显示“异常停止”的同时发出报警器等的警告音。

作为这种控制部28，能够列举可编程逻辑控制器(plc)等。

此外，在本实施方式中，示出涂布装置1具备控制膜厚测量部21和涂布部13的控制部28的方式，但除此以外，涂布装置1也可以还具备控制膜厚测量部21的另外的控制部。

显示部29显示判定部27中的判定结果。

具体地说，显示部29与判定部27电连接，在由判定部27判定为槽部33的深度的测量值d不收敛在规定范围r内的情况下，为了示出由分光干涉式测量部23进行的测量以及由涂布部13进行的涂布停止而在显示部29中显示“异常停止”。此外，也可以是，如上所述发出报警器等的警告音来代替由显示部29显示“异常停止”，或者在显示部29中显示“异常停止”的同时发出报警器等的警告音。

另外，显示部29还与控制部28电连接，显示控制部28的控制状态等。

作为这种显示部29，例如能够列举具有声音输出功能的液晶显示器之类的光电显示装置等。

接着，对保证本实施方式的分光干涉式测量装置21的测量值具有规定范围内的精度的分光干涉式测量装置21的测量精度保证方法进行说明。

本实施方式的测量精度保证方法是膜厚测量部(分光干涉式测量装置)21的测量精度保证方法，该膜厚测量部21向形成有作为对象物的涂布膜40的片材11照射光，并接收从片材11透过了该涂布膜40的干涉光来测量该涂布膜40的厚度，在该方法中，使用基准器30，由膜厚测量部21测量基准器30的槽部33的深度，判定所测量出的槽部33的深度的测量值d是否收敛在规定范围r内，由此保证膜厚测量部21的测量值具有规定范围r内的精度。

具体地说，在第二位置b处，由分光干涉式测量部23经由第二块体35向第一块体31的槽部33的底面33a的中央部照射光，接收由来自第二块体35的靠第一块体31侧的面35a的反射光和来自槽部33的底面33a的反射光形成的干涉光。由此，由分光干涉式测量部23测量槽部33的深度，采用该深度的测量值d来作为基准的厚度。

由判定部27判定由分光干涉式测量部23测量出的槽部33的深度的测量值d是否在规定范围r内。

接着，对本实施方式的涂布膜40的制造方法进行说明。

本实施方式的涂布膜40的制造方法是在相对地进行移动的片材11上涂布涂布液3来形成涂布膜40的涂布膜40的制造方法，在该方法中，使用膜厚测量部(分光干涉式测量装置)21测量基准器30的槽部33的深度，在所测量出的槽部33的深度的测量值d收敛在规定范围r内时，测量涂布膜40的厚度并且在片材11上涂布涂布液3。

具体地说，在第二位置b处，由分光干涉式测量部23经由第二块体35向第一块体31的槽部33的底面33a的中央部照射光，接收由来自第二块体35的靠第一块体31侧的面35a的反射光和来自槽部33的底面33a的反射光形成的干涉光。由此，由分光干涉式测量部23测量槽部33的深度来作为基准的厚度。

由判定部27判定由分光干涉式测量部23测量出的槽部33的深度的测量值d是否在规定范围r内。

在由判定部27判定为槽部33的深度的测量值d收敛在规定范围r内时，控制部28使分光干涉式测量部23进行对涂布膜40的厚度的测量，并且使涂布部13向片材11上涂布涂布液3来形成涂布膜40。

另一方面，在由判定部27判定为槽部33的深度的测量值d不在规定范围r内时，不使分光干涉式测量部23进行对涂布膜40的厚度的测量，不使涂布部13进行涂布液3的涂布，由此不形成涂布膜40。在该情况下，在由分光干涉式测量部23正在进行测量并且由涂布部13正在进行涂布的情况下，停止由分光干涉式测量部23进行的测量以及由涂布部13进行的涂布。

如上所述，本实施方式的基准器30用于保证测量对象物(在此为片材11上形成的涂布膜)40的厚度的分光干涉式测量装置(在此为膜厚测量部)21的测量值具有规定范围r内的精度，该基准器30构成为，具备：非透光性的第一块体31；以及透光性的第二块体35，其层叠于所述第一块体31，其中，所述第一块体31在靠所述第二块体35侧的面31a具有槽部33，由所述分光干涉式测量装置21经由第二块体35向所述第一块体31的所述槽部33照射光，由来自所述第二块体35的靠所述第一块体31侧的面35a的反射光和来自所述槽部33的底面33a的反射光形成与所述槽部的深度对应的规定的干涉光。

根据上述结构，当由分光干涉式测量装置21经由第二块体35向第一块体31的槽部33照射光时，由来自第二块体35的靠第一块体31侧的面35a的反射光和来自槽部33的底面33a的反射光形成与槽部33的深度对应的规定的干涉光，通过接收该干涉光来测量槽部33的深度(即，槽部33内的空气层的厚度)，能够采用该槽部33的深度来作为基准的厚度。

而且，通过确认所测量出的槽部33的深度的测量值d收敛在规定范围r内，能够保证分光干涉式测量装置21的测量值具有规定范围r内的精度。

另外，能够通过在第一块体31形成槽部33来形成基准器30，因此能够简单地制作与期望的测量对象物的厚度相应的基准器30。

在本实施方式的基准器30中，优选的是，所述第一块体31由金属材料形成。

根据上述结构，第一块体31由金属材料形成，由此能够抑制因溶剂气氛、环境温度、环境湿度等环境条件引起的变形。

因而，上述基准器30能够用于更高精度地保证分光干涉式测量装置21的测量值为规定范围r内的精度。

在本实施方式的基准器30中，也可以是，所述金属材料含有从由不锈钢、铁、铜以及铝组成的群中选择的一种以上的金属材料。

在此，在第一块体31的形成材料不充分地反射光的情况下，该第一块体31的槽部33的底面33a不充分地反射光，其结果，上述干涉光的测量精度有可能降低。

但是，通过使第一块体31由含有从由不锈钢、铁、铜以及铝组成的群中选择的一种以上的金属的金属材料形成，槽部33的底面33a更易于反射光，因此能够更高精度地测量上述干涉光。

在本实施方式的基准器30中，优选的是，所述第二块体35的针对波长为550nm的光的透过率为80％以上。

在此，在第二块体35不使光充分地透过的情况下，上述干涉光的测量精度有可能降低。

但是，通过使第二块体35的针对波长为550nm的光的透过率为80％以上，第二块体35能够使光更充分地透过，因此能够更高精度地测量上述干涉光。

因而，上述基准器30能够用于更高精度地保证分光干涉式测量装置21的测量值为规定范围r内的精度。

在本实施方式的基准器30中，优选的是，所述第一块体31的靠所述第二块体35侧的面31a的平面度和平行度以及所述第二块体35的靠所述第一块体31侧的面35a的平面度和平行度均为10μm以下。

在此，第一块体31的靠第二块体35侧的面31a的平面度及第二块体35的靠第一块体31侧的面35a的平面度越大或者它们的平行度越大，则上述干涉光的测量精度有可能越低。

但是，通过使第一块体31的靠第二块体35侧的面31a的平面度和平行度以及第二块体35的靠第一块体31侧的面35a的平面度和平行度均为10μm以下，能够抑制上述干涉光的测量精度的降低。

因而，上述基准器30能够用于更高精度地保证分光干涉式测量装置21的测量值在规定范围内。

在本实施方式的基准器30中，优选的是，还具备按压部37，该按压部37将所述第二块体35向所述第一块体31按压。

根据上述结构，基准器30具备上述按压部37，由此第二块体35被固定于第一块体31，与第二块体35不被固定于第一块体31的情况相比，能够抑制上述干涉光的测量精度的降低。

因而，上述基准器30能够用于更高精度地保证分光干涉式测量装置21的测量值为规定范围r内的精度。

另外，在具备上述按压部37的基准器30中，如果第一块体31的靠第二块体35侧的面31a的平面度和平行度以及第二块体35的靠第一块体31侧的面35a的平面度和平行度均大于10μm(粗糙)，则第二块体35在被按压部37按压时容易发生破损，其结果，上述干涉光的测量精度有可能降低。

但是，在具备上述按压部37的基准器30中，第一块体31的靠第二块体35侧的面31a的平面度和平行度以及第二块体35的靠第一块体31侧的面35a的平面度和平行度均为10μm以下，由此能够抑制因这种破损引起的测量精度的降低。

在本实施方式的基准器30中，也可以是，所述槽部33的深度为1μm～300μm。

根据上述结构，适用于对具有膜厚为1μm～300μm之类的薄的膜厚的对象物(在此为在片材11上形成的涂布膜40)进行测量的分光干涉式测量装置(在此为膜厚测量部)21。

在此，如上所述，为了高精度地保证分光干涉式测量装置21的测量值为规定范围r内的精度，作为参考而将与测量的对象物同等程度的厚度设为基准是有效的。

此时，如上述的那样，在采用片状体的厚度来作为基准值的情况下，当对象物的膜厚为1μm～300μm时，需要制作与该膜厚相应的比较薄的片状体。

但是，难以高精度地将玻璃板、树脂板之类的片状体制作得比较薄，另外，由于像这样将片状体制作得比较薄而片状体容易发生破损。

与此相对，与将玻璃板、树脂板之类的片状体的厚度形成为期望的厚度的情况相比，将上述槽部33的深度形成为期望的深度的情况更易于简单且高精度地形成。特别是在采用由金属材料形成基准器30的方式的情况下，与将片状体的厚度形成为期望的厚度的情况相比，对该金属材料进行加工来将上述槽部33的深度形成为期望的深度的情况更易于简单且高精度地形成。

由此，作为对具有膜厚为1μm～300μm之类的薄的膜厚的对象物40进行测量时的基准器30，能够进一步高精度地保证分光干涉式测量装置21的测量值为规定范围r内的精度。

本实施方式的分光干涉式测量装置21向对象物(在此为在片材11上形成的涂布膜)40照射光，并接收来自该对象物40的干涉光来测量该对象物40的厚度，该分光干涉式测量装置(在此为膜厚测量部)21具备：所述基准器30；分光干涉式测量部23，其构成为向所述对象物40照射光来测量该对象物40的厚度，并且向所述基准器30的槽部33照射光来测量该槽部33的深度；以及判定部27，其判定由所述分光干涉式测量部23测量出的所述槽部33的深度的测量值d是否具有规定范围r内的精度。

根据上述结构，由分光干涉式测量部23测量基准器30的槽部33的深度来作为基准的厚度，并判定所测量出的槽部33的深度的测量值d是否收敛在规定范围r内。由此，能够保证由分光干涉式测量部23得到的测量值具有规定范围r内的精度。而且，能够利用具有所保证的精度的分光干涉式测量部23测量对象物40的厚度。

因而，上述分光干涉式测量装置21能够高精度地测量对象物40的厚度。

本实施方式的涂布装置1构成为，具备：涂布部13，其向相对地进行移动的片材11上涂布涂布液3来形成涂布膜40；膜厚测量部21，其对利用所述涂布部13在片材11上形成的所述涂布膜40的厚度进行测量；以及控制部28，其控制由所述膜厚测量部21进行的对所述涂布膜40的测量以及由所述涂布部13进行的所述涂布液3的涂布，其中，所述膜厚测量部21是所述分光干涉式测量装置21，在由所述膜厚测量部21测量出的所述槽部33的深度的测量值d收敛在规定范围r内时，所述控制部28使所述膜厚测量部21测量涂布膜40的厚度并且使所述涂布部13涂布涂布液3。

根据上述结构，能够在使用上述基准器30保证了膜厚测量部21的测量值为规定范围r内的精度的状态下，利用膜厚测量部21测量涂布膜40的厚度，并且在片材11上涂布涂布液3来形成涂布膜40。

因而，能够一边充分地进行厚度的管理一边形成涂布膜40，由此，能够制造厚度的偏差得到抑制的涂布膜40。

在本实施方式的分光干涉式测量装置21的测量精度保证方法中，该分光干涉式测量装置(在此为膜厚测量部)21向对象物(在此为在片材11上形成的涂布膜)40照射光，并接收来自该对象物40的干涉光来测量该对象物40的厚度，所述分光干涉式测量装置21的测量精度保证方法保证分光干涉式测量装置21的测量值具有规定范围r内的精度，在该方法中，使用所述基准器30，由所述分光干涉式测量装置21测量所述基准器30的槽部33的深度，判定所测量出的所述槽部33的深度的测量值d是否收敛在规定范围r内，由此保证所述分光干涉式测量装置21的测量值具有所述规定范围r内的精度。

根据上述结构，能够使用上述基准器30保证分光干涉式测量装置21的测量值具有规定范围r内的精度。

本实施方式的涂布膜40的制造方法是在相对地进行移动的片材11上涂布涂布液3来形成涂布膜40的制造方法，在该方法中，使用所述分光干涉式测量装置21测量所述基准器30的槽部33的深度，在测量出的所述槽部33的深度的测量值d收敛在规定范围r内时，使用所述分光干涉式测量装置21测量涂布膜40的厚度，并且在所述片材11上涂布所述涂布液3。

根据上述结构，能够一边使用分光干涉式测量装置21高精度地测量涂布膜40的厚度一边形成该涂布膜40，因此能够制造厚度的偏差得到抑制的涂布膜40。

如上所述，根据本实施方式，提供一种能够与测量对象物无关地高精度且简单地制作的基准器30以及使用该基准器30的分光干涉式测量装置21、涂布装置1、测量精度保证方法以及涂布膜40的制造方法。

如以上那样对本发明的实施方式和实施例进行了说明，但最初还预定了将各实施方式及实施例的特征适当地进行组合的情形。另外，应当认为本次公开的实施方式和实施例在所有方面均是例示而并非限制性的。本发明的范围并不是通过上述的实施方式和实施例表示，而是通过权利要求书表示，意图包含与权利要求书等同的意义和范围内的所有变更。